泊頭UV光氧除臭設(shè)備廠家
uv光氧除臭設(shè)備是有機(jī)廢氣處理方法技術(shù)中比較*的技術(shù)之一，uv光氧除臭設(shè)備的開發(fā)充分考慮了有機(jī)廢氣性質(zhì)的不確定性和復(fù)雜性，從環(huán)保工程的設(shè)計(jì)、配套、安裝、調(diào)試、維護(hù)等方面提供了很大的可行性、可靠性、靈活性、有效性。
泊頭UV光氧除臭設(shè)備廠家
1、利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射來(lái)裂解排放的廢氣廢氣，能有效的處理：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯等廢氣的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子廢氣化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等，從而達(dá)到有效的廢氣凈化，實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。
2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需要與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生產(chǎn)臭氧。臭氧對(duì)紫外線光束照射分解后的有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有良好的除臭效果。
3、惡臭氣體通過(guò)廢氣收集排風(fēng)設(shè)備進(jìn)入到裝有UV光解除臭設(shè)備模塊的反應(yīng)腔后，高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
4、環(huán)保設(shè)備利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的廢氣處理目的。
UV光氧除臭設(shè)備特點(diǎn)
1、uv光氧除臭設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物、硫化氫、氨氣等無(wú)機(jī)物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，脫臭效果大大優(yōu)于國(guó)家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。
2、uv光氧除臭設(shè)備可適應(yīng)于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的有機(jī)廢氣處理，通過(guò)合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、*空調(diào)等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理。廢氣處理環(huán)保設(shè)備可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
3、uv光氧除臭設(shè)備無(wú)任何機(jī)械裝置，無(wú)運(yùn)動(dòng)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗，達(dá)到廢氣處理的目的。
4、uv光氧除臭設(shè)備采用光解原理，采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高，除臭設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場(chǎng)合。
5、uv光氧除臭設(shè)備無(wú)需惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，廢氣處理設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無(wú)需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。
6、uv光氧除臭設(shè)備可根據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小，進(jìn)行靈活配置，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統(tǒng)一，安裝及維護(hù)方便。備件可在線維護(hù)和更換，方便靈活。
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