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UV光氧化設備

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更新時間：2022-04-04 10:26:38瀏覽次數：258次

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產品簡介

UV光氧化凈化技術技術原理：??一、利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵

詳細介紹

UV 光氧化凈化技術

技術原理：
??一、利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵。
??二、利用高臭氧分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
??三、利用特制的催化劑進行氧化還原反應；運用高能UV紫外線光束、臭氧及催化劑對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。

性能特點：
??1、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）及各種惡臭味，脫臭效率**可達99%以上。
??2、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力。
??3、適應性強：可適應高濃度，大氣量，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
??4、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護。
??5、無需預處理：工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃～95℃之間，濕度在30%～98%、PH值在3-13之間均可正常工作。
??6、設備占地面積小，自重輕：處理10000m3/h風量設備占地面積<1平方米。
??7、優(yōu)質進口材料制造：防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩(wěn)定。
??8、環(huán)保高科技產品：采用國際上**進技術，可*分解惡臭氣體中有毒有害物質，并能達到**的脫臭效果，經分解后的惡臭氣體，可*達到無害化排放，絕不產生二次污染。