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常州藍(lán)陽(yáng)環(huán)保設(shè)備有限公司

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半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣處理設(shè)備
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣處理設(shè)備
參考價(jià) 85487
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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更新時(shí)間:2022-04-15 16:49:50瀏覽次數(shù):547

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【簡(jiǎn)單介紹】
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣處理設(shè)備:在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線制程工藝中,會(huì)產(chǎn)生大量的酸堿及VOCs有機(jī)污染物等有毒有害氣體。如果直接排放就會(huì)對(duì)大氣和人的身體健康造成較為嚴(yán)重的危害。

在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線制程工藝中,會(huì)產(chǎn)生大量的酸堿及VOCs有機(jī)污染物等有毒有害氣體。如果直接排放就會(huì)對(duì)大氣和人的身體健康造成較為嚴(yán)重的危害。


半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣介紹


廢氣成分:半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣主要包括酸堿廢氣和有機(jī)廢氣兩類。酸/堿廢氣包括:氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。有機(jī)廢氣包括:非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等;


廢氣來(lái)源:在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線造成環(huán)境污染的有害氣體,主要來(lái)源于芯片生產(chǎn)的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過(guò)程中。


 廢氣特點(diǎn):半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣具有排氣量大、濃度小的特點(diǎn)。 


主要危害:半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線對(duì)大氣的污染,主要是器件清洗等表面處理過(guò)程中因使用一些化學(xué)藥劑(如硫酸、鹽酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有機(jī)鹵化物)揮發(fā)造成對(duì)大氣環(huán)境的污染,以及整機(jī)裝配過(guò)程中產(chǎn)生的機(jī)械噪聲和少量粉塵也會(huì)造成環(huán)境污染,這些污染氣體會(huì)造成人群慢性或急性中毒。


半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣處理設(shè)備工藝


 半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣處理,按照其廢氣處理工藝分為:酸性廢氣處理、堿性廢氣處理、有機(jī)廢氣處理等。 


1、半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣處理設(shè)備酸堿性廢氣處理工藝工作原理: 


(1)立式廢氣洗滌塔工作原理為氣液兩相逆流接觸;含酸性或堿性廢氣由塔下部進(jìn)口進(jìn)入塔內(nèi)向上運(yùn)動(dòng),通過(guò)單層或多層填料,廢(尾)氣與液相充分接觸后吸收或中和,干凈的氣體經(jīng)過(guò)上層的除霧層排出,從而達(dá)到吸收和凈化效果; 

(2)臥式廢氣洗滌塔的工作原理為氣液兩相交叉流接觸,酸堿廢(尾)氣通過(guò)填料層段時(shí)與液相充分接觸后吸收或中和,從而達(dá)到吸收或凈化的效果。


主要設(shè)備: 

(1)洗滌塔設(shè)備樣式:洗滌塔的結(jié)構(gòu)型式分為立式和臥式。

 (2)洗滌塔設(shè)備組成:包括塔體、填料層、除霧層、循環(huán)水管路及循環(huán)水箱等。 

(3)洗滌塔設(shè)備材料:廢氣處理設(shè)備以PP為主要材料生產(chǎn),填料采用PP材質(zhì)的鮑爾環(huán)。 


工藝流程:

 酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風(fēng)機(jī)→煙囪(達(dá)標(biāo)排放)

 酸堿廢氣經(jīng)過(guò)收集管道集中收集后按照各自的系統(tǒng)進(jìn)入相應(yīng)的化學(xué)洗滌塔進(jìn)行噴淋處理,化學(xué)洗滌塔通過(guò)內(nèi)部的噴淋系統(tǒng)、循環(huán)水系統(tǒng)、填料過(guò)濾系統(tǒng)、除霧系統(tǒng)、自動(dòng)加藥系統(tǒng)、自動(dòng)補(bǔ)排水等系統(tǒng)對(duì)進(jìn)入化學(xué)洗滌塔的廢氣進(jìn)行化學(xué)吸收、除霧,經(jīng)過(guò)處理后的廢氣達(dá)標(biāo)排放。

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