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詳細(xì)摘要： 液相滲硅爐主要用于碳碳復(fù)合材料、陶瓷基復(fù)合材料的液相滲硅陶瓷化處理
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詳細(xì)摘要： 立式真空裂解爐可用于碳陶復(fù)合材料、陶瓷基復(fù)合材料、碳化硅纖維的高溫裂解工藝。
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詳細(xì)摘要： ?臥式真空裂解爐可用于碳陶復(fù)合材料、陶瓷基復(fù)合材料、碳化硅纖維的高溫裂解工藝。
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詳細(xì)摘要： 氨氣裂解燒成爐主要可用于陶瓷基復(fù)合材料在氫氣或氨氣氣氛下的裂解處理
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詳細(xì)摘要： 織物預(yù)處理爐主要用于碳纖維、碳化硅纖維及編織預(yù)制件等的上漿劑脫除預(yù)處理
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詳細(xì)摘要： 氮化硼界面層沉積爐主要用于碳纖維、碳化硅纖維、氮化硅纖維、氮化硼纖維及其編織預(yù)制件等的氮化硼界面層制備。
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詳細(xì)摘要： 碳化硅CVI/CVD沉積爐主要用于碳纖維、碳化硅纖維及其編織預(yù)制件等的碳化硅界面層制備。
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詳細(xì)摘要： 炭界面制備沉積爐主要用于碳纖維、碳化硅纖維及其編織預(yù)制件等的炭界面層制備。
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詳細(xì)摘要： 該類型設(shè)備主要可用于纖維材料在可控氧化氣氛下的連續(xù)預(yù)氧化處理
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詳細(xì)摘要： 該類型設(shè)備主要用于各種纖維及其氈體材料在保護(hù)性氣氛下的連續(xù)式高溫碳化處理
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詳細(xì)摘要： 碳碳/碳陶剎車盤制備系列設(shè)備可用于在汽車、高速列車、坦克、飛機(jī)等碳碳/碳陶高性能剎車盤的制備。
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詳細(xì)摘要： 中頻感應(yīng)爐可用于材料的沉積、碳化、滲硅、石墨化、燒結(jié)等處理。能滿足低溫到3000℃的升溫要求。
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詳細(xì)摘要： 立式真空石墨化爐主要用于碳碳復(fù)合材料、碳纖維保溫材料、儲(chǔ)能材料或其他新型炭材料等高溫石墨化處理。
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詳細(xì)摘要： 臥式真空石墨化爐主要用于碳碳復(fù)合材料、碳纖維保溫材料、儲(chǔ)能材料或其他新型炭材料等高溫石墨化處理。
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詳細(xì)摘要： 設(shè)備主要用于浸漬固化處理的碳碳復(fù)合材料或碳纖維保溫材料、儲(chǔ)能材料及其它新型炭材料的碳化處理
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詳細(xì)摘要： 設(shè)備主要用于浸漬固化處理的碳碳復(fù)合材料或碳纖維保溫材料、儲(chǔ)能材料及其它新型炭材料的碳化處理
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詳細(xì)摘要： 超高溫碳化物沉積爐主要用于碳碳復(fù)合材料及其它新型炭材料等超高溫陶瓷化處理
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詳細(xì)摘要： 超高溫硼化物沉積爐主要用于碳碳復(fù)合材料及其它新型炭材料等超高溫陶瓷化處理
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詳細(xì)摘要： 立式化學(xué)氣相沉積爐（SiC、BN）可用于材料的表面涂層、基體改性、復(fù)合材料制備等
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詳細(xì)摘要： 臥式化學(xué)氣相沉積爐（SiC、BN）可用于材料的表面涂層、基體改性、復(fù)合材料制備等
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