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詳細摘要： 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業(yè)光學光譜儀器的設(shè)計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。

詳細摘要： 高功率等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性.

詳細摘要： 霍爾效應(yīng)測試儀主要用于測量半導體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導電類型等重要參數(shù)，而這些參數(shù)是了解半導體材料電學特性必須預(yù)先掌控的.

詳細摘要： 高溫霍爾效應(yīng)測試儀恒電流源（1nA~20mA）采用六級電流范圍設(shè)置，將可以接收的誤差降到低；范德堡法則轉(zhuǎn)換使用非接觸裝置有效降低儀器噪聲；軟硬件有針對性的設(shè)計，...

詳細摘要： 旋風等離子清洗機等離子傳感器：雙等離子強度傳感器（申請中）監(jiān)測現(xiàn)場等離子源和遠程等離子源。等離子強度實時顯示在LCD觸摸屏上。

詳細摘要： Tergeo-plus 等離子清洗機清洗方式：沉浸式等離子清洗可以高速刻蝕和表面改性；遠程等離子體可以輕微的清除表面污染，如SEM、TEM樣品清洗；

詳細摘要： 等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的...

詳細摘要： 大基片單晶圓全自動兆聲清洗機技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版。

詳細摘要： 單晶圓兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。

詳細摘要： 單片晶圓兆聲清洗機提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學試劑的...