不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)

（透鏡測量等）

不規(guī)則非球面光學(xué)元件（光刻機透鏡等）應(yīng)力分布測量系統(tǒng)

利用調(diào)制器技術(shù)， 公司的測量系統(tǒng)可以在深紫外（193nm）波段進行應(yīng)力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）有著的技術(shù)解決方案。

應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量，應(yīng)力，應(yīng)力橢偏測量

Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)）通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學(xué)元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時也表示了應(yīng)力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的光學(xué)元件（光刻機透鏡等）有著的掃描測量解決方案。

產(chǎn)品特點：
1. 全套內(nèi)置軟件自動掃描成圖
2. 非球面掃描（手動宏程序）
3. 應(yīng)力大小及方向分布探測成圖
4. 定制各種尺寸形狀樣品臺
5. 探測強度：皮瓦

產(chǎn)品參數(shù)：
1. 可見光波段探測延遲范圍：0 to 300+nm
2. 深紫外波段探測延遲范圍：0 to 90+nm
3. 可見光波段應(yīng)力探測精度：0.001nm / ±0.03 (up to 3nm, 1% thereafter)
4. 深紫外波段應(yīng)力探測精度：0.001nm / ± 0.08 nm (up to 4nm, 2% thereafter)