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詳細(xì)摘要： 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀配有磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。

詳細(xì)摘要： 等離子磁控濺射鍍膜儀系列儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉(zhuǎn)樣品臺，其與濺射頭之間距離可調(diào)