日立紫外/臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II
日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對樣品表面污染物進(jìn)行清理的前處理設(shè)備，主要針對樣品表面的有機(jī)污染物，相比等離子清洗更加溫和，對樣品損傷小。
清洗系統(tǒng):
2種清洗模式
真空清洗和真空儲(chǔ)存
清洗時(shí)間范圍為1min-30min（步幅1min）
真空系統(tǒng):
無油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）
3min內(nèi)達(dá)到所需真空度
真空范圍為100-500torr(100步)
樣品桿:
3孔或5孔可選
適合于各型號(hào)透射電鏡樣品桿
有效清理區(qū)域直徑3mm
日立科學(xué)儀器（北京）有限公司為您提供日立紫外/臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息，日立紫外/臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II產(chǎn)地為日本、品牌為日立，型號(hào)為ZONETEM II，價(jià)格為面議，更多相關(guān)信息可公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)
環(huán)保在線