相信大家對紫外臭氧清洗機已經(jīng)不會感到陌生了吧，它具有安全、簡易的操作特點，配置了安全傳感器將避免臭氧環(huán)境污染和紫外線對操作者的暴露；并擁有良好的簡易人機交互控制界面，不需要任何特殊的培訓即可使用。隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
紫外臭氧表面清洗應(yīng)用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領(lǐng)域都有應(yīng)用。可以用于硅片和塑料包裝的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對III-V復合半導體晶圓片(如GaAs和InP)進行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類材質(zhì)表面的有機污染物清洗。
雖然表面清洗和制程方法有多種選擇，但紫外臭氧清洗顯示出優(yōu)于其他方法的幾個優(yōu)點。而傳統(tǒng)清洗方式分別為干法清洗和濕法清洗兩種方式：
1、與干法清洗對比，基板充電損傷小。在等離子體處理中，離子轟擊引起的充電損傷是一個嚴重的挑戰(zhàn)。它會導致器件的電氣特性退化。紫外臭氧處理提供表面處理使用氧自由基沒有等離子體放電，它是等離子體蝕刻的一種經(jīng)濟有效的替代方法，因為它不需要任何特殊的真空室、氣體或特殊設(shè)備。
2、與濕法清洗對比，沒有有害的廢水。濕式清洗需要處理化學廢水，與濕法清洗相比，紫外UV臭氧處理是一個干燥的過程。而紫外臭氧清洗機內(nèi)會配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統(tǒng)內(nèi)分解，不會造成清潔室內(nèi)的臭氧含量過高從而產(chǎn)生危害。它也可配置成連續(xù)加載的清洗線，并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合，清除表面的顆粒。
紫外臭氧清洗機常用于掃描探測顯微鏡的樣品應(yīng)用，能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標準和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無機材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學改性，經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。
