濕法激光粒度分析儀采用的Mie氏散射原理和會(huì)聚光傅立葉變換光路，傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭雙鏡頭技術(shù)的采用保證了儀器的測(cè)量精度，高密度陣列探頭及全量程無(wú)縫銜接測(cè)試方法,保證了測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和重復(fù)性。特別的濕法循環(huán)分散系統(tǒng)采取了管道無(wú)殘留設(shè)計(jì)，保證顆粒測(cè)試過(guò)程中無(wú)顆粒沉積現(xiàn)象，測(cè)試排水后無(wú)廢液積存現(xiàn)象，不但證了測(cè)試不同樣品的準(zhǔn)確性，還保證了第二次測(cè)試精度,使測(cè)試結(jié)果更真實(shí)可靠。

適用范圍：

儀器被廣泛應(yīng)用于各種金屬、非金屬粉：如重鈣、輕鈣、滑石、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤(rùn)土、硅藻土、黏士、二氧化硅、石榴石、硅酸錯(cuò)、氧化錯(cuò)、氧化鎂.氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙?zhí)盍贤苛稀⒏鞣N乳液等。

濕法激光粒度分析儀產(chǎn)品參數(shù)：

測(cè)量原理：全量程激光衍射；

粒徑范圍：0.1um~800μm(全量程測(cè)試)；

探測(cè)系統(tǒng)：70通道均勻交叉及面積補(bǔ)償多方位陣列；

激光器：進(jìn)口大功率光纖輸出半導(dǎo)體激光器，波長(zhǎng)635nm、功率最大20mw；

光學(xué)模型：全量程米氏散射理論，包含高濃度多重散射動(dòng)態(tài)補(bǔ)償技術(shù)；

濾波方式：雙鏡頭濾波技術(shù)，傅里葉變換鏡頭＋濾波鏡頭；

采集主板：高速采集主板(10000次/秒)；

濃度范圍：遮光度3%，最高遮光度90%(光學(xué)濃度)；

樣品池：特殊鍍膜工藝處理，光信號(hào)透過(guò)率>99.7%

光學(xué)對(duì)中系統(tǒng)：機(jī)械中心+光學(xué)中心雙定位全自動(dòng)對(duì)中系統(tǒng)；

測(cè)量時(shí)間：典型值<10秒；

測(cè)量精度：準(zhǔn)確性、重復(fù)性Dv50均優(yōu)于±0.5%(NIST可溯源標(biāo)準(zhǔn)樣品)；

測(cè)量方式：SOP可編輯全自動(dòng)測(cè)量；

環(huán)境溫度：0°℃-45°℃；

環(huán)境濕度：10%-85%相對(duì)濕度(無(wú)結(jié)凝)；

電源要求：220V(±20V)，50Hz-60Hz；

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T19077-2016/ISO13320:2009；

外觀尺寸：800mm×280mm×335mm；

儀器重量：38kg。