多入射角激光橢偏儀

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更新時間：2021-12-03 17:23:34瀏覽次數：256次

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產品簡介

多入射角激光橢偏儀研發(fā)領域專用的多入射角激光橢偏儀，采用多項技術，儀器硬件和軟件具有多項定制功能設計，適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應用場合

詳細介紹

多入射角激光橢偏儀

研發(fā)領域專用的多入射角激光橢偏儀，采用多項技術，儀器硬件和軟件具有多項定制功能設計，適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應用場合。產品特點： 1.高精度、高穩(wěn)定性 2.一體化集成設計 3.測量簡單 4.快速、高精度樣品方位對準 5.多角度測量 6.實時測量 7.豐富的材料庫及物理模型 8.強大的數據分析和管理功能應用領域：可應用于納米薄膜的幾乎所有領域，如微電子、半導體、生命科學、電化學、顯示技術、磁介質及金屬處理等。可對納米層構樣品的薄膜厚度和折射率n及消光系數k進行快速、高精度、高準確度的測量，尤其適用于科研和工業(yè)產品環(huán)境中的新品研發(fā)及質量監(jiān)控，可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構模系，以及塊狀材料（基底）。

技術指標：

激光波長	632.8nm(He-Ne laser)
膜層厚度精度	0.01nm(對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層
折射率精度	1x10^-4（對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層
光學結構	PSCA
激光光束直徑	<1mm
入射角度	40°-90°可選，步進5°
樣品方位調整	三維平移調節(jié)；±6.5mm（X-Y-Z三軸）二維俯仰調節(jié)：±4° 光學自準直系統對準
樣品臺尺寸	Φ 170mm
單次測量時間	0.2s
推薦測量范圍	0-6000nm
外形尺寸（長x寬x高）	887x332x552mm(入射角為90°時
儀器重量（凈重）	25kg