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精密離子刻蝕與鍍膜系統(tǒng)PECS II Gatan 685

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更新時(shí)間：2021-08-25 15:31:53瀏覽次數(shù)：344次

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利用寬幅氬離子束對樣品進(jìn)行切割、拋光、研磨和鍍膜處理，從而得到高質(zhì)量SEM成像和分析結(jié)果

利用寬幅氬離子束對樣品進(jìn)行切割、拋光、研磨和鍍膜處理，從而得到高質(zhì)量SEM 成像和分析結(jié)果。

全自動(dòng)氬離子拋光系統(tǒng)適合用于制備 SEM 樣品，可以得到無損的表面、橫截面和鍍層，以保護(hù)樣品或克服非導(dǎo)電樣品的荷電問題。

· 只需一次抽真空，就可現(xiàn)實(shí)對樣品的拋光、刻蝕或鍍膜

· 在低至 100 伏的電壓下刻蝕，從而快速地得到無損樣品表面 

· 可制備直徑高達(dá) 32 毫米的樣品

· 在不暴露于空氣的情況下，將樣品從 PECS™ II 儀器轉(zhuǎn)移到 SEM/FIB 或手套箱中（可選）

· 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 軟件存儲(chǔ)和分析圖像，數(shù)字光學(xué)成像

· 集成的 10 英寸彩色觸摸屏顯示和控制所有 PECS II 參數(shù)

精密離子刻蝕與鍍膜系統(tǒng)PECS II Gatan 685

利用寬幅氬離子束對樣品進(jìn)行切割、拋光、研磨和鍍膜處理，從而得到高質(zhì)量S

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