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石墨烯管式爐(石墨烯CVD爐)

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產(chǎn)品型號S-1200PC

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更新時間：2023-03-16 12:33:22瀏覽次數(shù)：365次

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產(chǎn)品簡介

管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成,溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達到10-3Pa

詳細介紹

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：
由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成，溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。
S-1200G管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和宇電控溫儀表，能進行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、節(jié)能等優(yōu)點。
軟件控制系統(tǒng)：該爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數(shù)，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來，隨時可以調(diào)出。
產(chǎn)品用途：
可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、裝飾等領(lǐng)域。
產(chǎn)品參數(shù)：