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更新時(shí)間：2024-05-03 08:18:02瀏覽次數(shù)：214次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線大功率濺射儀，桌面式設(shè)計(jì)，觸摸屏控制，石英＋不銹鋼腔體，濺射距離可調(diào)，自動(dòng)電動(dòng)擋板可保護(hù)樣品和清洗靶材。
大功率濺射儀，桌面式設(shè)計(jì)，觸摸屏控制，石英＋不銹鋼腔體，濺射距離可調(diào)，自動(dòng)電動(dòng)擋板可保護(hù)樣品和清洗靶材。
離子鍍膜技術(shù)是PVD技術(shù)的一種，是指在PVD沉積過(guò)程中，被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體（如Ti離子，N離子），等離子體在偏壓電場(chǎng)的作用下，沉積在工件表面上。由于離子鍍過(guò)程中，離子的能量更強(qiáng)，離子繞射性更好，膜層的結(jié)合力更好，膜層致密性也更好，膜層性能更好。
離子鍍膜技術(shù)的應(yīng)用非常廣泛，常見(jiàn)的有：裝飾性鍍膜，工具模具硬質(zhì)鍍膜以及各種功能膜層。
大功率濺射儀技術(shù)參數(shù)；
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
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