污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時間：2024-02-02 14:21:57瀏覽次數(shù)：147次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線A system for the analysis of secondary positive and negative ions from solid samples.
·Hiden在被動射頻補(bǔ)償方面處于地位，在所有的商業(yè)化探針中 ESPion具有的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz cf. 100kohm)
· 參考探針補(bǔ)償用于抵制較低頻率影響，例如等離子體電位漂移(如，反應(yīng)室內(nèi)腔陽極氧化所致) 或噪音(如，供電源引起)
· 高溫等離子體操作時的氣體制冷多感應(yīng)器鏈，使用者可調(diào)諧至其他頻率
·獲得數(shù)據(jù)速度： 15scans/s，
·通過D-O-E-界面可以自動/半自動/手動分析
·300、600、915mm 自動線性驅(qū)動器可選，互鎖隔離閥，
·90°探針，組合式線性－旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器可選
·ESPion 是所有商業(yè)化探針中速的脈沖等離子體探針，
·ESPsoft 包括所有必需的標(biāo)準(zhǔn)脈沖選通電路
·自清洗循環(huán)，防止探針污染
· 經(jīng)由RS232、RS485、Ethernet LAN 和 ESPsoft軟件控制
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)
AP0067 - O- Density Measurements in the Pulsed-DC Reactive Magnetron Sputtering of Titanium (215 KB)
AP0121 - Hiden ESPion Plasma Probe Measurements on a Hollow-Cathode Based Large-Volume Plasma Source (277 KB)
AP0142 - Ion Density Increase in High Power Twin-cathode Magnetron System (247 KB)
Energy/Mass Spectrometer Analyser and Langmuir Probe Diagnostics for HIPIMS (1.88 MB)
Mass Spectrometry in HiPIMS Plasmas - COST Workshop 2012 (3.2 MB)
Plasma Diagnostics in High Power Impulse Magnetron Sputtering Discharges - TIRI JSFS 2012 Tokyo YAG (3.52 MB)
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