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Hysitron TI 980 納米壓痕儀

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更新時(shí)間：2022-09-11 14:51:55瀏覽次數(shù)：268次

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BRUKER Hysitron TI 980 TriboIndenter 加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段,同時(shí)具有的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度?；诤Ｋ紕?chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學(xué)表征帶來(lái)了高水平的性能、功能和易用性。TI 980達(dá)到了一臺(tái)優(yōu)異納米力學(xué)測(cè)試儀器所需的所有要求，實(shí)現(xiàn)了控制上突出的*性和高效性，試驗(yàn)上的靈活度與可實(shí)現(xiàn)性，測(cè)量穩(wěn)定性，以及系統(tǒng)設(shè)計(jì)的模塊化。

詳細(xì)介紹

Hysitron TI 980 TriboIndenter

加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段

布魯克的海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter同時(shí)具有的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度?；诤Ｋ紕?chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學(xué)表征帶來(lái)了高水平的性能、功能和易用性。TI 980達(dá)到了一臺(tái)優(yōu)異納米力學(xué)測(cè)試儀器所需的所有要求，實(shí)現(xiàn)了控制上突出的性和高效性，試驗(yàn)上的靈活度與可實(shí)現(xiàn)性，測(cè)量穩(wěn)定性，以及系統(tǒng)設(shè)計(jì)的模塊化。

的Performech® II控制模塊和電子設(shè)計(jì)

。性能的高速閉環(huán)控制

。業(yè)界的噪音控制

。集成的帶輸入/輸出信號(hào)的多參數(shù)控制

。五百倍于前代產(chǎn)品的力學(xué)測(cè)試速度

多維度測(cè)量耦合

。充分優(yōu)化各個(gè)傳感器的特質(zhì)適用不同測(cè)量需要，通過(guò)多維傳感器的選擇實(shí)現(xiàn)不同測(cè)量間的無(wú)縫耦合

。多種有效的測(cè)試模塊配置，包括納米/微米壓痕、納米劃痕、納米摩擦磨損、高分辨原位掃描探針顯微鏡成像、動(dòng)態(tài)納米壓痕和高速力學(xué)性能成像等

豐富的系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)分析軟件

。TriboScan(TM) 10提供了革命性的控制功能，包括XPM超快納米壓痕，SPM+原位掃描探針顯微鏡成像，動(dòng)態(tài)表面搜索，全自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)和創(chuàng)新的測(cè)試程序

。Tribo iQ (TM)提供了強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理、分析和畫圖功能，并具有可編程數(shù)據(jù)分析模塊和自動(dòng)生成的定制測(cè)試報(bào)告功能。

極大的靈活性和具有前瞻性的表征潛質(zhì)

。多級(jí)別的防護(hù)罩提供了環(huán)境隔絕能力，并具有用于將來(lái)的升級(jí)可擴(kuò)展接口

。樣品臺(tái)提供了機(jī)械、磁性和真空固定方式，適用于各種樣品

保持處于材料研究和開發(fā)的

海思創(chuàng)從1992年起就在范圍內(nèi)處于納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征的位置。通過(guò)與研究人員和工程師的持續(xù)合作，布魯克理解您的需求，通過(guò)創(chuàng)新的技術(shù)幫助您解決當(dāng)下和將來(lái)面臨的材料挑戰(zhàn)。海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter是這些努力的集大成者。它提供了的性能，能滿足您持續(xù)更新的材料表征需求。

簡(jiǎn)潔、高速的自動(dòng)控制

系統(tǒng)自動(dòng)校正使得每次測(cè)試都無(wú)懈可擊

。針尖面積函數(shù)自動(dòng)校正

。傳感器自動(dòng)校正

。壓針和光學(xué)系統(tǒng)校正

自動(dòng)測(cè)試程序

?？焖佟⒍鄻悠纷詣?dòng)測(cè)試功能實(shí)現(xiàn)高通量表征

。智能化自動(dòng)程序確保用戶選擇正確的針尖

。高分辨多尺度成像結(jié)合全尺寸樣品的光學(xué)搜索，

極大簡(jiǎn)化測(cè)試流程

的噪音水平，實(shí)現(xiàn)真正納米尺度表征

。從微米到幾個(gè)納米的多尺度測(cè)量

。納牛級(jí)別的力噪音水平和小于90%原子直徑的位移測(cè)量能力，實(shí)現(xiàn)幾乎任何材料的定量表征

。系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)超過(guò)6個(gè)數(shù)量級(jí)的力測(cè)量和10個(gè)數(shù)量級(jí)的位移測(cè)量

。力和位移噪音水平保證在客戶現(xiàn)場(chǎng)安裝時(shí)實(shí)現(xiàn)

的反饋控制速率

精確控制測(cè)試過(guò)程

。實(shí)現(xiàn)精度、可信度和重復(fù)性的真正定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征

。特殊的力和位移反饋控制方法用于海思創(chuàng)的傳感器-專門針對(duì)海思創(chuàng)傳感器物理特性開發(fā)的力與位移反饋控制算法

。每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整反饋控制，使得系統(tǒng)能測(cè)量快速瞬態(tài)過(guò)程，并對(duì)其作出反饋，真正實(shí)現(xiàn)用戶的測(cè)試意圖-每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整的感知-分析-控制的循環(huán)，使得系統(tǒng)能對(duì)瞬態(tài)過(guò)程進(jìn)行測(cè)量與反饋，以此重現(xiàn)用戶定義的測(cè)試方式

在納米力學(xué)測(cè)試上一步

nanoDMA III：動(dòng)態(tài)納米壓痕

布魯克的nanoDMA III是強(qiáng)大的動(dòng)態(tài)納米壓痕技術(shù)。它提供了彈/塑性和粘彈性隨著壓入深度、頻率和時(shí)間的變化關(guān)系。

。全面表征各種材料的普適性方法，從較軟的聚合物到硬質(zhì)鍍層都能適用

。集成直流和交流調(diào)制使得從初始接觸點(diǎn)開始就能實(shí)現(xiàn)納米尺度動(dòng)態(tài)性能的可靠、定量表征

。原位參考頻率法校正溫漂使得長(zhǎng)時(shí)間測(cè)試的精度大大提高

XPM：快速力學(xué)性能成像

不論是測(cè)量分辨率和精度，還是測(cè)量速度，XPM都是納米力學(xué)測(cè)試的業(yè)界新。有了XPM，原來(lái)可能需要一整年才能獲得的數(shù)據(jù)，現(xiàn)在只需要一個(gè)下午就能獲得。這些的性能是通過(guò)以下三個(gè)業(yè)界的技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。1）高帶寬靜電激勵(lì)傳感器；2）快速控制和數(shù)據(jù)采集電子系統(tǒng)；3）自上而下的原位掃描探針顯微鏡成像。這些技術(shù)聯(lián)用能實(shí)現(xiàn)每秒六次納米壓痕測(cè)試，從而獲得全面的定量納米力學(xué)性能圖譜以及性能分布的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。

更少時(shí)間測(cè)量更多參數(shù)

。超高速定量力學(xué)性能測(cè)量（每秒6次測(cè)量）

。快速、高分辨空間硬度和模量分布統(tǒng)計(jì)

。一分鐘內(nèi)可靠完成針尖函數(shù)自動(dòng)校正

。比傳統(tǒng)納米壓痕測(cè)試快500倍的數(shù)據(jù)采集速率

。 xSol 環(huán)境控制腔及載臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)環(huán)境條件下高通量測(cè)量