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深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)TS-PL150MA
品 牌
廠商性質(zhì)其他
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更新時(shí)間：2023-04-05 08:44:45瀏覽次數(shù)：457次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線真空等離子清洗機(jī)TS-PL150MA
| 名稱(chēng) | 真空等離子清洗機(jī) |
| 型號(hào) | TS-PL150MA |
| 外形尺寸（W×H×D） | 1200×1100×1730(mm) |
| 反應(yīng)腔尺寸（W×H×D） | 500×500×600(mm) |
| 真空腔體材料 | 進(jìn)口316不銹鋼 |
| 真空泵 | 雙級(jí)組合泵 |
| 角閥 | 北儀 超真空40KF |
| 流量控制器及顯示儀 | 0-800ml/min |
| 真空顯示規(guī)管及讀取器 | Pirani |
| 射頻電源 | 美國(guó)品牌 40KHZ、 13.56MHZ 、2.45GHZ |
| PLC系統(tǒng) | 三菱（包括PLC，A/D模組兩組，D/A模塊兩組，溫度模塊） |
| 電氣系統(tǒng) | 施耐德 |
| 變頻器 | 西門(mén)子2KW |
| 觸摸屏 | 中國(guó)臺(tái)灣威綸真彩10寸 |
| 陶瓷封裝 | 進(jìn)口高頻陶瓷 |
| 處理氣體 | O2、Ar2、N2，H2、CF4 |
等離子清洗機(jī)，英文叫（Plasma Cleaner）又稱(chēng)等離子體清洗機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機(jī)，等離子表面處理機(jī),電漿清洗機(jī)，plasma清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)，等離子清洗設(shè)備。適合各種基片、粉體或顆粒狀材料的等離子表面改性處理，包括：等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、接枝與聚合等。
TS系列低溫等離子表面處理設(shè)備-低壓(真空)等離子清洗機(jī)由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到0.02-0.03mbar 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)）。高頻發(fā)生器提供能量使氣體電離成等離子態(tài)。等離子態(tài)顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的色彩可見(jiàn)光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。
真空等離子清洗機(jī)整個(gè)清洗過(guò)程大致如下：1）被清洗的工件送入真空式并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開(kāi)始排氣，使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要幾分鐘。2）向真空室內(nèi)引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)狻⑺姆嫉葰怏w。3）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過(guò)輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體，讓在真空室產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理工件，開(kāi)始清洗作業(yè)，一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十分鐘不等。4）清洗完畢后切斷電源，并通過(guò)真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。
2.廣適性：不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。
4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；
5.低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。
6.全過(guò)程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。
7.處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。
真空等離子清洗機(jī)技術(shù)特點(diǎn)是：它不分處理對(duì)象，可處理不同的基材，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。
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