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耶拿 ICP-MS

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

PlasmaQuant MS 在靈敏度、線性范圍、檢出限、穩(wěn)定性等方面上一個(gè)新臺(tái)階。其還可配備潔凈室組件、樣品導(dǎo)入系統(tǒng)、自動(dòng)進(jìn)樣器等配件，可靈活、快速實(shí)現(xiàn)普通靈敏度模式和高靈敏度模式之間的切換，滿足日常分析和研究級(jí)的各種應(yīng)用。

詳細(xì)介紹

PlasmaQuant MS ICP-MS ：
(1)節(jié)省消耗的等離子體：獲得穩(wěn)定強(qiáng)勁的等離子體所消耗氬氣量?jī)H為常規(guī)儀器的一半；
(2)的iCRC集成式碰撞反應(yīng)池：有效去除多原子分子干擾，不損失其它干擾元素靈敏度的前提下獲得更好的碰撞反應(yīng)效果；氣體切換快速，無(wú)需額外維護(hù)；
(3)ReflexION離子反射技術(shù)：3D聚焦離子反射鏡獲得一定的靈敏度，其靈敏度達(dá)到同類產(chǎn)品的5倍以上；
(4)高解析四極桿：3MHz的掃描速度，可獲得好的質(zhì)譜分離；檢測(cè)駐留時(shí)間低至50μs；
(5)全數(shù)字脈沖技術(shù)檢測(cè)器：ICP-MS領(lǐng)域中的全數(shù)字檢測(cè)器，線性范圍達(dá)10個(gè)數(shù)量級(jí)，無(wú)需頻繁的脈沖和模擬雙模式交叉校準(zhǔn)，無(wú)需稀釋即可進(jìn)行痕量到常量的元素分析，使用壽命超長(zhǎng)；

這些技術(shù)的采用讓PlasmaQuant MS 在靈敏度、線性范圍、檢出限、穩(wěn)定性等方面上一個(gè)新臺(tái)階。其還可配備潔凈室組件、樣品導(dǎo)入系統(tǒng)、自動(dòng)進(jìn)樣器等配件，可靈活、快速實(shí)現(xiàn)普通靈敏度模式和高靈敏度模式之間的切換，滿足日常分析和研究級(jí)的各種應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù)：

靈敏度	1.5千兆計(jì)數(shù)/ppm
碰撞反應(yīng)技術(shù) (CRI II)	氦氣或氫氣模式
ECO等離子體	性能強(qiáng)大，一半氬氣耗量，最小7 L/min
碰撞反應(yīng)池	iCRC，無(wú)干擾的分析以及BOOST技術(shù)
離子技術(shù)	ReflexION：3D聚焦離子鏡，獲得超高靈敏度
HD四極桿質(zhì)量分析器	3MHz四極桿，超高的質(zhì)量分離能力；檢測(cè)駐留時(shí)間：50μs
檢測(cè)系統(tǒng)	ADD10：全數(shù)字脈沖計(jì)數(shù)模式檢測(cè)系統(tǒng)；線性動(dòng)態(tài)范圍：10個(gè)數(shù)量級(jí)
靈敏度（M cps/mg/L）	⁷Li: ≥150； ¹¹⁵In：≥1500； ²³²Th：≥1000
PlasmaQuant®MS	頻度：27.12 MHz； 90度離子偏轉(zhuǎn)透鏡和雙離軸四極桿
靈敏度	1.5 GHz/ppm
同位素/核素	⁹Be > 5 x 108 cps/mg/L