高純鍺探測(cè)器擁有精銳的能量分辨率。由其組成的γ 和X 射線能譜測(cè)量技術(shù)和產(chǎn)品，不僅是原子核結(jié)構(gòu)、分子物理、原子碰撞等核物理與核反應(yīng)研究的重要工具，而且在核電、環(huán)保、檢驗(yàn)檢疫、生物醫(yī)學(xué)、天體物理與化學(xué)、地質(zhì)、法學(xué)、考古學(xué)、冶金和材料科學(xué)等諸多學(xué)科與社會(huì)領(lǐng)域得到了越來(lái)越廣的應(yīng)用。

詳細(xì)介紹

Angle V3.0 實(shí)驗(yàn)室無(wú)源效率刻度軟件

AngleV3.0 是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室高純鍺γ 譜儀的無(wú)源效率刻度軟件。

其原理是基于對(duì)每套實(shí)驗(yàn)室譜儀，以點(diǎn)源/ 體源/ 面源/ 馬林杯樣品源之中的任一系列標(biāo)準(zhǔn)源的完整效率曲線為基準(zhǔn)，結(jié)合算法（Monte Carlo）與相對(duì)算法，由無(wú)數(shù)實(shí)驗(yàn)室修正，以“效率轉(zhuǎn)換"方法推演其他形式樣品的效率刻度曲線。軟件具有完整的記憶存檔功能，當(dāng)某一個(gè)條件發(fā)生變化時(shí)，用戶可以調(diào)取以前的刻度文件，改變相應(yīng)變化的參數(shù)重新進(jìn)行刻度。

軟件精度：測(cè)量誤差除方法本身之外，還取決于刻度效率曲線所用點(diǎn)源本身的誤差和各項(xiàng)參數(shù)的準(zhǔn)確性，誤差水平在3%~ 4% 左右。

方法的可溯源性：如基準(zhǔn)效率曲線所用的刻度源為可溯源，則此方法下獲得的測(cè)量結(jié)果亦可溯源。具體探測(cè)器或系統(tǒng)在出廠時(shí)工廠提供點(diǎn)源效率刻度曲線。

DSPEC 系列數(shù)字化譜儀

特點(diǎn)

● 使用計(jì)算機(jī)進(jìn)行控制和參數(shù)設(shè)置；

● 數(shù)據(jù)通過率高：＞ 100kcps；

● 多種數(shù)據(jù)處理與能譜穩(wěn)定功能；

● 可預(yù)置多種核素的MDA，在所有MDA 自動(dòng)終止計(jì)數(shù)；

● 背板配置統(tǒng)一接口，強(qiáng)調(diào)兼容性；

GammaVision γ 能譜分析軟件

集硬件控制、譜獲取與分析、報(bào)告與質(zhì)量保證功能于一體。具有多路譜圖同步獲取功能-MDI（Multiple Detector Interface）。與Windows、Windows XP 等軟件良好兼容。包含四種分析引擎：

● WAN32：GammaVision 原始分析引擎，采用庫(kù)引導(dǎo)的尋峰，用于一般應(yīng)用及分析研究型譜數(shù)據(jù)。

● GAM32：Mariscotti 法尋峰，并對(duì)核素庫(kù)進(jìn)行“預(yù)過濾"，以減少環(huán)境樣品測(cè)量的正向偏差。

● NPP-32：用于裂變產(chǎn)物復(fù)雜譜圖的分析。

● ENV32：用于環(huán)境水平樣品的分析，Mariscotti 法尋峰，同時(shí)產(chǎn)生活度與MDA 報(bào)告。

傳統(tǒng)高純鍺（HPGe）探測(cè)器

● GEM 系列：P 型同軸高純鍺探測(cè)器

標(biāo)準(zhǔn)形制“寬能"高純鍺探測(cè)器

性能指標(biāo)上綜合了傳統(tǒng)GEM 與GMX 探測(cè)器的優(yōu)勢(shì)。能量下限降至3keV、分辨率優(yōu)異。中低能段效率顯著提升GEM-S 和GEM-C 系列采用超薄可靠接觸極，GEM-SP 系列采用點(diǎn)接觸極。在常溫下保存不會(huì)損害探測(cè)器性能嚴(yán)格保證效率、分辨率、峰型與峰康比等完整指標(biāo)。

標(biāo)準(zhǔn)形制同軸探測(cè)器

所應(yīng)用（測(cè)量）中不關(guān)注低能射線。ORTEC 提供基于傳統(tǒng)GEM 工藝、但以晶體尺寸定義型號(hào)的探測(cè)器。

GEM-F 系列：短同軸探測(cè)器（適合濾紙/ 濾膜等扁平樣品）

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