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瑞紳葆分析技術(shù)（上海）有限公司
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瑞紳葆分析技術(shù)（上海）有限公司
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更新時(shí)間：2022-09-25 13:15:29瀏覽次數(shù)：195次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線FHC-00型高頻熔樣機(jī)是瑞紳葆分析技術(shù)（上海）有限公司精心研制的一款針對(duì)XRF分析用玻璃熔片法制樣的設(shè)備，還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析。玻璃熔融法制備XRF的測(cè)試用玻璃熔片是這樣過(guò)程：試樣在助熔劑（如硼酸鋰鹽）的協(xié)助下，用鉑黃坩堝（一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5）做導(dǎo)熱容器，通過(guò)高溫加熱熔融（熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間），最后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。......
FHC-00型高頻熔樣機(jī)是瑞紳葆分析技術(shù)（上海）有限公司精心研制的一款針對(duì)XRF分析用玻璃熔片法制樣的設(shè)備，還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析。玻璃熔融法制備XRF的測(cè)試用玻璃熔片是這樣過(guò)程：試樣在助熔劑（如硼酸鋰鹽）的協(xié)助下，用鉑黃坩堝（一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5）做導(dǎo)熱容器，通過(guò)高溫加熱熔融（熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間），最后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。玻璃熔片法作為XRF測(cè)試的制備樣品重要方法之一，有效減少甚至消除了樣品在XRF分析時(shí)的顆粒效應(yīng)、基體效應(yīng)、礦物效應(yīng)等不良因素，提高了XRF的精確度，在鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥等行業(yè)有廣泛應(yīng)用。本自動(dòng)高頻熔樣機(jī)是為快速高效制備XRF分析用玻璃熔片而設(shè)計(jì)，整機(jī)結(jié)構(gòu)合理，采用高頻感應(yīng)加熱技術(shù)，有的加熱速度，同時(shí)配備有高精度紅外測(cè)溫系統(tǒng)實(shí)時(shí)測(cè)溫并結(jié)合PID控溫技術(shù)確保熔樣過(guò)程的溫度準(zhǔn)確性和重現(xiàn)性，的保障玻璃熔片的質(zhì)量，采用直觀全觸摸屏設(shè)計(jì)，人機(jī)界面友好，操作簡(jiǎn)單，PLC智能控制組成整機(jī)控制中樞，使得熔樣機(jī)具有的自動(dòng)化程度，穩(wěn)定和靈活操作特性。高頻快速加熱結(jié)合完整的溫度控制、運(yùn)動(dòng)搖勻、安全機(jī)制等設(shè)計(jì)使得本設(shè)備在玻璃熔片制樣上表現(xiàn)出高效穩(wěn)定特性，各項(xiàng)指標(biāo)性能表現(xiàn)*，擁有很高的性價(jià)比，適用性強(qiáng)，可以滿足不同客戶對(duì)不同樣品的快速玻璃熔片制樣需求。
? 靈活，多功能性：XRF分析用玻璃熔片，AAS和ICP分析用溶液。
? 采用高頻感應(yīng)加熱系統(tǒng)，快速升溫，過(guò)程可靠穩(wěn)定高效。
? 有單堝單模，雙堝雙模，四堝四模等三種可選，制樣速度為：5-10min/批。
? 采用集操作和顯示于一體的觸摸屏人機(jī)界面，操作簡(jiǎn)單、安全可靠。
? 采用高精度紅外測(cè)溫系統(tǒng)，結(jié)合PID智能溫度控制，保證熔樣過(guò)程的控溫制樣準(zhǔn)確性。
? PLC智能控制系統(tǒng)，可預(yù)存儲(chǔ)5套常用制樣程序。
? 具熔融過(guò)程自動(dòng)擺動(dòng)功能，保障熔樣均勻性。
? 自動(dòng)完成整個(gè)熔化和澆鑄成型。用戶只需按自己要求上樣，按預(yù)氧化→加熱熔化→擺動(dòng)搖勻→澆鑄成型→冷卻，設(shè)定好熔樣程序，一鍵啟動(dòng)，即可自動(dòng)執(zhí)行完成快速高質(zhì)量制樣。
? 對(duì)鉑金坩堝和成型模具設(shè)計(jì)有耐熱陶瓷保護(hù)架，保障其正常使用壽命。
? 熔化室內(nèi)設(shè)計(jì)有專(zhuān)門(mén)抽風(fēng)系統(tǒng)，可及時(shí)排走熔化過(guò)程中產(chǎn)生的有害氣體，保障用戶健康使用。
? 有過(guò)壓、過(guò)流、過(guò)熱、缺水、超溫等多重安全防護(hù)，保障安全穩(wěn)定使用。
? 對(duì)不同樣品有廣泛適用性，制得的熔片均勻可靠，性價(jià)比高，可滿足用戶XRF分析時(shí)對(duì)玻璃熔片的高要求。
| 型號(hào) | FHC-00 |
| 溫度范圍 | 室溫-1300℃ |
| 加熱方式 | 高頻感應(yīng)加熱 |
| 控溫方式 | 紅外非接觸實(shí)時(shí)測(cè)溫，PID反控高頻加熱 |
| 額定功率 | 單堝：8kw， 空開(kāi)要求：32A 雙堝：16kw, 空開(kāi)要求：60A 四堝：32kw, 空開(kāi)要求：125A |
| 電源 | 單相AC220V±10%、50/60Hz，保護(hù)接地 |
| 振蕩頻率 | 50-100kHz |
| 坩堝架搖擺角度 | ±45° |
| 坩堝架搖擺頻率 | 30-99次/分鐘(用戶可調(diào)） |
| 倒樣角度 | 60-122°（用戶可調(diào)） |
| 成型方式 | 自動(dòng)倒模澆鑄成型 |
| 控制系統(tǒng) | 集操作顯示控制一體彩色液晶觸摸屏、PLC控制 |
| 預(yù)存儲(chǔ)程序數(shù) | 5條（用戶可設(shè)置常用熔樣程序） |
| 熔樣曲線工作模式及各階段時(shí)間 | 預(yù)熱-氧化-熔融-搖擺-自動(dòng)澆鑄成型-冷卻，各階段時(shí)間可調(diào) |
| 感應(yīng)圈水溫 | ≤60℃ |
| 冷卻系統(tǒng) | 加熱線圈需水冷卻（外置冷水機(jī)），供水要求大于3L/min, 水壓≤0.2MPa；熔片冷卻采用風(fēng)扇強(qiáng)制風(fēng)冷 |
| 熔樣工作方式 | 預(yù)氧化→熔融+擺動(dòng)→自動(dòng)澆鑄成型→冷卻 |
| 熔樣位 | 雙堝雙模（用戶可選單堝單模，或四堝四模） |
| 熔樣速度 | 5-10min/批（根據(jù)樣品的復(fù)雜程度而定） |
| 設(shè)備安全保護(hù) | 過(guò)壓、過(guò)流、過(guò)熱、缺水、超溫 |
| 坩堝要求 | 鉑黃坩堝（Pt/Au: 95/5） |
| 儀器重量 | 50kg（雙鍋雙模）/25kg（單堝單模）/100kg（四堝四模） |
| 主機(jī)尺寸（L×W×H mm） | 雙堝雙模型主機(jī)：580×828×425（不包括外置水冷機(jī)） 單堝單模型主機(jī)：580×414×425（不包括外置水冷機(jī)） 四堝四模型主機(jī)：580×1656×425（不包括外置水冷機(jī)） |
鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥、陶瓷耐火材料等行業(yè)，用于礦石、巖石、土壤、耐火材料、冶金原料等樣品的XRF分析——玻璃熔片制樣。
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