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行業(yè)產(chǎn)品

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UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器

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更新時間:2022-10-07 12:04:01瀏覽次數(shù):286次

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產(chǎn)品簡介

超高純氣體純化技術是有色金屬研究總院十三五重點產(chǎn)業(yè)化方向

詳細介紹

超高純氣體純化技術是有色金屬研究總院“十三五”重點產(chǎn)業(yè)化方向。在“十二五”期間項目科研成果基礎上研發(fā)的氣體純化材料,具有處理量大、去除雜質(zhì)種類多、吸附深度大、使用壽命長等優(yōu)點,并以此為核心技術開發(fā)出多個型號的惰性氣體、氫氣和氮氣等超高純氣體純化裝置。同時,有研總院自身具備不斷創(chuàng)新的研發(fā)能力,成套的純化材料生產(chǎn)、純化器組裝技術,以及完善的純化器性能測試條件,可根據(jù)用戶需求設計完整解決方案、定制非標產(chǎn)品,并提供各項性能檢測服務,目前產(chǎn)品已應用于理化所、、西南化工研究設計院、北京師范大學、北京航空航天大學、北京科技大學、國家有色金屬材料檢測中心,哈爾濱師范大學等單位獲得應用。
UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器采用活性金屬為化學吸附劑,當原料氣通過活性金屬純化床時,氣體中O 2,H2O,N2,CO,CO2,CH4等雜質(zhì)氣體與活性金屬發(fā)生化學吸附反應,根據(jù)原料氣純度不同,一次純化后出口氣體純度即達到 7N-8N,可實現(xiàn)無人值守全自動運行,并具有實時監(jiān)測、故障報警和反饋等功能。為保證產(chǎn)品質(zhì)量,純化器系統(tǒng)管路連接全部采用 Swagelok 全自動軌道焊機焊接,漏率低于 109 Pa;關鍵部件焊接、組裝、生產(chǎn)均在千級超凈環(huán)境中進射流沖蝕試驗機便于在各種條件下測定的磨損率。磨損率可 以用來確定在給定操作條件的材料。它也可以被用來預測使用壽命和壽命周期成本。
 
UP系列氣體純化器
                        
                 UP1L                                                                          UP10M
 
 

委托上海正帆科技公司對 GRINM-UP1L 氬氣純化器性能檢測結(jié)果
 
氣體類型 H2 O2/Ar N2 CH4 CO CO2 H2O 單位
原料氣 0.074 <0.01 0.248 <0.01 <0.01 <0.01 未測試 ppm
純化后 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.01 <0.033 ppm
 
部分用于現(xiàn)場照片
 

 
山西中升鋼廠光譜儀配套UP10M使用現(xiàn)場,分析用氣體純度達到光譜儀檢測所需的的綠色。
 
 
 
北京科技大學CVD設備用的多臺UP1L氬氣純化器
 
 
 
             西南化工研究院定制 20MPa/30Nm3 氬氣純化器
 
 


搭載氫氣純化的電解水制氫/在線純化系統(tǒng),用于人造鉆石生產(chǎn)高純氫場合
 

UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器產(chǎn)品參數(shù):
l  原料氣純度要求:≥99.999%,He/Ar/H2 /N2
l  產(chǎn)品氣純度:≥99.99999%
l  產(chǎn)品氣雜質(zhì)含量:
H2O ≤5ppb
O2 ≤10ppb
N2 ≤10ppb(原料氣非 N2
H2 ≤10ppb(原料氣非 H2
CO ≤10ppb
CO2 ≤10ppb
CH4 ≤10ppb
NMHC ≤10ppb
l  工作流量:≤10Nm3 /h,可定制2-30Nm3 /h
l  閥門:EP 級氣動隔膜閥
l  內(nèi)置顆粒過濾器:2 微米
l  顯示屏:組態(tài)控制軟件,觸摸屏工業(yè)計算機控制
l  工作壓力:2.0MPa,氬氣可定制20兆帕高壓
l  出入口氣體壓差:0.2MPa
l  進出氣接口:1/4″VCR
l  純化柱及管路:EP級316不銹鋼
l  管路連接:Swagelok 自動軌道焊接
l  電源電壓及功率:220V-380V,10-20kw
l  產(chǎn)品外形尺寸:500×700×1600mm
 
氣體純化器是集成電路、LED、太陽能板、光纖、燃料電池等制造工藝中的重要裝備,并可有效提高離子濺射、薄膜生長、焊接、配氣等多項技術的工藝性能。UP10M 工業(yè)用超高純氣體純化器系列主要用于提供工業(yè)生產(chǎn)、分析測試中的超高純度工藝氣、保護氣等,也是氣體配制行業(yè)的關鍵設備之一。
氣體種類 產(chǎn)品用途 應用領域
He 稀釋氣純化 半導體制造業(yè)中光刻、干刻、化學氣相沉積工藝中混合氣
Ar 等離子體氣體、載氣純化 半導體制造業(yè)中干刻蝕、離子注入等 工藝中等離子體氣體,直讀光譜儀載氣
N2 稀釋氣、檢漏氣純化 半導體制造業(yè)中稀釋氧化工藝、氣體濃度調(diào)節(jié)、檢漏氣體
H2 還原氣、反應氣純化 IC、LED 等制造業(yè)中外延工藝和擴散工藝氣體
 






地址:北京市海淀區(qū)清河三街 95 號同源大廈929 室,100085
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