超高純氣體純化技術(shù)是有色金屬研究總院“十三五”重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)化方向。在“十二五”期間項(xiàng)目科研成果基礎(chǔ)上研發(fā)的氣體純化材料，具有處理量大、去除雜質(zhì)種類多、吸附深度大、使用壽命長等優(yōu)點(diǎn)，并以此為核心技術(shù)開發(fā)出多個(gè)型號的惰性氣體、氫氣和氮?dú)獾瘸呒儦怏w純化裝置。同時(shí)，有研總院自身具備不斷創(chuàng)新的研發(fā)能力，成套的純化材料生產(chǎn)、純化器組裝技術(shù)，以及完善的純化器性能測試條件，可根據(jù)用戶需求設(shè)計(jì)完整解決方案、定制非標(biāo)產(chǎn)品，并提供各項(xiàng)性能檢測服務(wù)，目前產(chǎn)品已應(yīng)用于理化所、、西南化工研究設(shè)計(jì)院、北京師范大學(xué)、北京航空航天大學(xué)、北京科技大學(xué)、國家有色金屬材料檢測中心，哈爾濱師范大學(xué)等單位獲得應(yīng)用。
UP10M
工業(yè)用超高純氣體純化器采用活性金屬為化學(xué)吸附劑，當(dāng)原料氣通過活性金屬純化床時(shí)，氣體中O
2，H
2O，N
2，CO，CO
2，CH
4等雜質(zhì)氣體與活性金屬發(fā)生化學(xué)吸附反應(yīng)，根據(jù)原料氣純度不同，一次純化后出口氣體純度即達(dá)到 7N-8N，可實(shí)現(xiàn)無人值守全自動(dòng)運(yùn)行，并具有實(shí)時(shí)監(jiān)測、故障報(bào)警和反饋等功能。為保證產(chǎn)品質(zhì)量，純化器系統(tǒng)管路連接全部采用 Swagelok 全自動(dòng)軌道焊機(jī)焊接，漏率低于 10
－9 Pa；關(guān)鍵部件焊接、組裝、生產(chǎn)均在千級超凈環(huán)境中進(jìn)射流沖蝕試驗(yàn)機(jī)便于在各種條件下測定的磨損率。磨損率可 以用來確定在給定操作條件的材料。它也可以被用來預(yù)測使用壽命和壽命周期成本。
UP系列氣體純化器 
UP1L UP10M
委托上海正帆科技公司對 GRINM-UP1L 氬氣純化器性能檢測結(jié)果
| 氣體類型 | H2 | O2/Ar | N2 | CH4 | CO | CO2 | H2O | 單位 |
| 原料氣 | 0.074 | <0.01 | 0.248 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | 未測試 | ppm |
| 純化后 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.033 | ppm |
部分用于現(xiàn)場照片： 
山西中升鋼廠光譜儀配套UP10M使用現(xiàn)場，分析用氣體純度達(dá)到光譜儀檢測所需的的綠色。
北京科技大學(xué)CVD設(shè)備用的多臺UP1L氬氣純化器
西南化工研究院定制 20MPa/30Nm
3 氬氣純化器
搭載氫氣純化的電解水制氫/在線純化系統(tǒng)，用于人造鉆石生產(chǎn)高純氫場合
UP10M
工業(yè)用超高純氣體純化器產(chǎn)品參數(shù)： l 原料氣純度要求：≥99.999%，He/Ar/H
2 /N
2 l 產(chǎn)品氣純度：≥99.99999%
l 產(chǎn)品氣雜質(zhì)含量：
H
2O ≤5ppb
O
2 ≤10ppb
N
2 ≤10ppb（原料氣非 N
2 ）
H
2 ≤10ppb（原料氣非 H
2 ）
CO ≤10ppb
CO
2 ≤10ppb
CH
4 ≤10ppb
NMHC ≤10ppb
l 工作流量：≤10Nm
3 /h，可定制2-30Nm
3 /h
l 閥門：EP 級氣動(dòng)隔膜閥
l 內(nèi)置顆粒過濾器：2 微米
l 顯示屏：組態(tài)控制軟件，觸摸屏工業(yè)計(jì)算機(jī)控制
l 工作壓力：2.0MPa，氬氣可定制20兆帕高壓
l 出入口氣體壓差：0.2MPa
l 進(jìn)出氣接口：1/4″VCR
l 純化柱及管路：EP級316不銹鋼
l 管路連接：Swagelok 自動(dòng)軌道焊接
l 電源電壓及功率：220V-380V，10-20kw
l 產(chǎn)品外形尺寸：500×700×1600mm
氣體純化器是集成電路、LED、太陽能板、光纖、燃料電池等制造工藝中的重要裝備，并可有效提高離子濺射、薄膜生長、焊接、配氣等多項(xiàng)技術(shù)的工藝性能。UP10M
工業(yè)用超高純氣體純化器系列主要用于提供工業(yè)生產(chǎn)、分析測試中的超高純度工藝氣、保護(hù)氣等，也是氣體配制行業(yè)的關(guān)鍵設(shè)備之一。
| 氣體種類 | 產(chǎn)品用途 | 應(yīng)用領(lǐng)域 |
| He | 稀釋氣純化 | 半導(dǎo)體制造業(yè)中光刻、干刻、化學(xué)氣相沉積工藝中混合氣 |
| Ar | 等離子體氣體、載氣純化 | 半導(dǎo)體制造業(yè)中干刻蝕、離子注入等 工藝中等離子體氣體，直讀光譜儀載氣 |
| N2 | 稀釋氣、檢漏氣純化 | 半導(dǎo)體制造業(yè)中稀釋氧化工藝、氣體濃度調(diào)節(jié)、檢漏氣體 |
| H2 | 還原氣、反應(yīng)氣純化 | IC、LED 等制造業(yè)中外延工藝和擴(kuò)散工藝氣體 |
地址：北京市海淀區(qū)清河三街 95 號同源大廈929 室，100085
電話：，
傳真：
：
會員1.png)
