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工業(yè)氣體*溴化氫純化器空分設(shè)備混配氣

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參考價(jià): ￥ 19999

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更新時(shí)間：2020-07-23 15:53:44瀏覽次數(shù)：946次

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  純化器純化設(shè)備

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南京鐳普化工有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我們提供的腐蝕性氣體純化器可以純化以下工業(yè)氣體：*，溴化氫，二氯二氫硅（DCS），三氯氫硅（TCS），三氯化硼，四氯化硅，一氧化碳，一氧化氮，*。
純化器的主要用途（典型應(yīng)用）：去除工業(yè)氣體中的水分，細(xì)微顆粒，揮發(fā)性金屬顆粒，大流量應(yīng)用，防止裝置（閥門(mén)閥座）腐蝕。

詳細(xì)介紹

工作原理：純化媒介是一種高活性的無(wú)機(jī)化合物，可以用來(lái)去除腐蝕性氣體中的水分，有效降低腐蝕性氣體對(duì)氣體供應(yīng)系統(tǒng)中各個(gè)部件的腐蝕程度。此類(lèi)腐蝕行為會(huì)產(chǎn)生大量的揮發(fā)與非揮發(fā)的金屬雜質(zhì)，明顯降低設(shè)備性能和產(chǎn)能，同時(shí)也會(huì)大大減少整個(gè)氣體供應(yīng)系統(tǒng)的使用壽命。 Metal-X TM 能夠有效去除氣體原料在生產(chǎn)過(guò)程中或是在供應(yīng)過(guò)程中產(chǎn)生的各類(lèi)金屬雜質(zhì)。由于此類(lèi)金屬雜質(zhì)無(wú)法通過(guò)過(guò)濾器清除，Metal-X TM 被證明是可以同時(shí)去除腐蝕性氣體中的水分和金屬雜質(zhì)（揮發(fā)與非揮發(fā)）的純化媒介。

去除：

– 水分 (H2O)

– 細(xì)微顆粒 (非揮發(fā)性）

– 揮發(fā)性金屬顆粒：鐵，鉬，鉻，鈦，鎳，錳等

• 提高并確保制程氣體質(zhì)量

• 提高制程性能與產(chǎn)能

• 保護(hù)設(shè)備不被腐蝕

• 適用于氣源（滿瓶），POU 制程機(jī)臺(tái)前端（<100 psig）。

MTX ™ 擁有比前代同類(lèi)產(chǎn)品高出約30%壽命。

• MTX™ 擁有更高的性能

< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常壓電離質(zhì)譜分析)

< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里葉紅外光譜/Laser IR/Lamda Scan，LDL分析設(shè)備及方法的檢測(cè)極限)