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真空紫外光譜儀

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產(chǎn)品型號(hào)H20-UVL

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更新時(shí)間：2022-11-11 11:46:56瀏覽次數(shù)：288次

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產(chǎn)品簡介

H20-UVL真空紫外光譜儀是基于單個(gè)全息凹面像差校正光柵，其波長覆蓋100-600nm范圍的單色儀

詳細(xì)介紹

H20-UVL真空紫外光譜儀是基于單個(gè)全息凹面像差校正光柵，其波長覆蓋100-600nm范圍的單色儀。它是采用緊湊的設(shè)計(jì)理念，在真空紫外段光源波長測(cè)量或低分辨率測(cè)量時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)配備一個(gè)單通道探測(cè)器。多通道探測(cè)器的攝譜儀版本也可根據(jù)要求提供。

主要應(yīng)用

?激發(fā)單色儀 (在熒光檢測(cè)中)
?遠(yuǎn)紫外反射和吸收測(cè)量
?等離子體物理研究

H20-UVL是一款基于覆蓋波長范圍為100-600 nm (2 to 12.4 eV) far UV (FUV) 的特別設(shè)計(jì)的單色儀，其中在低于190nm以下工作時(shí)是基于真空環(huán)境；高于190nm使用是基于大氣環(huán)境。這種專業(yè)的設(shè)計(jì)在保證良好的光通量的基礎(chǔ)上可以有效地降低雜散光的干擾，特別是在常見的儀器在低于140nm時(shí)若采用C-T結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)會(huì)造成信號(hào)損耗增加，數(shù)值孔徑變小的情況，而該款儀器通過優(yōu)化光學(xué)入射角的方式，很好地保證了光通量的降低。在VUV波段采用短焦距真空單色儀作為分光器件是一種非常理想的選擇，在遠(yuǎn)紫外低分辨光譜分析來說一般采用PMT或者Si探測(cè)器，但也可以采用光譜CCD或者M(jìn)CP探測(cè)器。

技術(shù)參數(shù)

光學(xué)結(jié)構(gòu)	Spherical Type IV VLS single optic
焦距長度	200 mm
數(shù)字孔徑	f/4.2
光柵密度	1200 gr/mm
光學(xué)鍍膜	MgF2 optimized at 121 nm
光學(xué)入射角	64°
線色散	3.6 nm/mm at 100 nm
驅(qū)動(dòng)方式	Fast worm drive
最小步距	0.06 nm
掃描速度	400 nm/s
光譜精度	+/- 0.1 nm
光譜重復(fù)性	+/-0.06 nm
光譜分辨率	Better than 0.1 nm
真空度	5 10^-6 mbar
法蘭接口	DN63 LF
入/出口	Micrometric slits (10 um to 2 mm)
入/出口法蘭	DN25 KF
通訊方式	built-in USB2, no additional controller