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電子半導(dǎo)體行業(yè)超純水EDI系統(tǒng)

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更新時間：2022-10-22 15:44:11瀏覽次數(shù)：466次

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產(chǎn)品簡介

電子半導(dǎo)體行業(yè)超純水EDI系統(tǒng)1，電子半導(dǎo)體行業(yè)★水質(zhì)要求　微電子工業(yè)、集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品

詳細介紹

電子半導(dǎo)體行業(yè)超純水EDI系統(tǒng)

1，電子半導(dǎo)體行業(yè)

★水質(zhì)要求
　微電子工業(yè)、集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
　中國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）

★工藝流程
   ☆二級反滲透制備超純水工藝流程
     預(yù)處理(砂濾器、碳濾器、軟化器) →一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置 →超純水水箱→純水泵→用水點
   ☆一級反滲透+混床制備超純水工藝流程
     預(yù)處理→一級反滲透裝置→精制混床→精密過濾器→超純水水箱→純水泵→用水點
   ☆二級反滲透+拋光混床制備超純水工藝流程
     預(yù)處理→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置→拋光混床→精密過濾器→超純水水箱→純水泵→用水點
   ☆二級反滲透+EDI+拋光混床制備超純水工藝流程     (電阻率18MΩ.cm)
     預(yù)處理→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置→EDI主機→超純水水箱→純水泵→拋光混床→超純水水箱→純水泵→用水點

☆EDI超純水設(shè)備技術(shù)簡介

昆山市盛泓水處理設(shè)備有限公司---EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備技術(shù)簡介

1. EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備的技術(shù)特點
電去離子(EDI)技術(shù)是一種將電滲析和離子交換有機結(jié)合在一起的脫鹽新工藝，英文名稱electrodeionization，縮寫EDI，該工藝過程取電滲析和離子交換兩者之長，彌補對方之短，即利用離子交換深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不*，又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H+和OH－實現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學藥劑再生的缺陷。因而EDI技術(shù)是一種的除鹽工藝。
2. EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備技術(shù)的*性
*不需化學再生藥劑，生產(chǎn)過程無任何污染，屬清潔生產(chǎn)；
*不需停機再生,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水(15～18MΩ·cm)；
*運行穩(wěn)定可靠，維護簡單、運行費用低；
*占地面積小，節(jié)約場地建設(shè)費用。
3. EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備的主要作用和適用范圍
EDI的作用是精除鹽。在使用RO滲透水脫除97～99％離子的前提下，EDI可直接將反滲透產(chǎn)水提純到純水、高純水、超純水的標準，而無需使用離子交換混床，其產(chǎn)水的電阻率可達18MΩ·cm。
EDI設(shè)備在對水質(zhì)要求較高的行業(yè)中具有廣泛的應(yīng)用市場。在電子工業(yè)、科研實驗室、檢驗分析行業(yè)常用EDI制取18MΩ·cm以上的超純水，在精細化工、發(fā)電、電鍍行業(yè)常用EDI制取15MΩ·cm以上的高純水，在醫(yī)院和制藥行業(yè)常用EDI制取5MΩ·cm以上的純化水，在食品飲料行業(yè)應(yīng)用EDI制取0.5MΩ·cm以上的初純水等。
4. EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備的工作原理
EDI電去離子膜堆同時進行以下三個主要過程:
1)在純水室中，陰、陽混合離子交換樹脂上的OH－和H+離子對水中電解質(zhì)離子的離子交換過程；
2)在外電場作用下,純水室水中電解質(zhì)離子通過離子交換膜被遷移到濃水室的電滲析過程；
3)電滲析的極化及交換樹脂本身的水解作用所產(chǎn)生的H+和OH－對交換樹脂的再生過程。這三個過程同時發(fā)生，相互促進，從而實現(xiàn)了EDI連續(xù)不斷地生產(chǎn)高電阻率的超純水的目標。