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更新時間：2022-11-19 16:17:55瀏覽次數(shù)：271次
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HF刻蝕 均勻性 刻蝕速率均一性： 基板內(nèi) : ≤ 8% 基板間 : 3% 批次間 : 3% 基板邊緣保證距離：≤5mm O3成膜 均勻性 刻蝕速率均一性： 基板內(nèi) : ≤ 8% 基板間 : 4% 批次間 : 4% 基板邊緣保證距離：≤5mm 玻璃表面 接觸角 ≤ 5° Pure Glass 基板邊緣保證距離：≤5mm Particle 管控 清洗后顆粒 A: 總顆粒數(shù) ≤15，M+L≤5，L≤0（S：1~3μm M：3~5μm，L：5μm） B: 顆粒增加 ：0 C: 顆粒去除率 ＞98% 設(shè)備流程 Robot Input→EUV→Buffer→Lift+Rinse+Turn→O3→Lift+Rinse+Turn→HF→Lift+Rinse+Turn→O3→Lift+Rinse+Turn→Final Rinse+BJ→AK→Robot Output 優(yōu)勢 節(jié)約空間； 功能完備，除產(chǎn)能外，性能等同量產(chǎn)線，特別適合用于產(chǎn)能要求不高的研發(fā)線； 價格低廉，使用方便，各個模塊獨立可獨立設(shè)置運行。
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