產品特點
配備技術自循環(huán)凈化裝置（UV-PLUS）的光學系統(tǒng)
SPECTROLAB的光學系統(tǒng)了傳統(tǒng)光電管光學系統(tǒng)和CCD全譜光學系統(tǒng)的所有優(yōu)點。采用優(yōu)化帕邢—龍格原理的“半殼"鑄造鋁框架技術提供了超常堅固的機械結構，同時減小了內部容積。為減少外部環(huán)境的影響，光學系統(tǒng)內部恒溫恒壓。
主光學系統(tǒng)內部包括兩個的光譜模塊—光電管光學部分和CCD光學部分，各自配備一個原級全息光柵。第三光學系統(tǒng)是一個的空氣光學系統(tǒng)，將波長范圍擴展到780nm。的自循環(huán)凈化系統(tǒng)（UV-PLUS）用于測量紫外波段（UV）和遠紫外波段（VUV）光譜。嚴格密封的光學室內部充以氬氣，無需復雜的技術可以實現(xiàn)紫外及遠紫外光在光學系統(tǒng)內不被吸收。分子薄膜泵驅動氬氣在光學系統(tǒng)內部和凈化裝置中循環(huán)?？梢员苊獠捎谜婵障到y(tǒng)產生的油蒸氣污染或流動沖氣系統(tǒng)帶來的外部污染。保持潔凈的光學系統(tǒng)和優(yōu)異的長期穩(wěn)定性表現(xiàn)。UV-PLUS的優(yōu)點是較大程度降低了運行成本，并且在120-180nm的遠紫外光譜波段提供了出色的光學表現(xiàn)。
的光學系統(tǒng)結構和UV-PLUS技術，使得創(chuàng)新的SPECTROLAB光學系統(tǒng)能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級相關光譜信息，CCD光學系統(tǒng)的光譜分辨率達到9皮米。
等離子發(fā)生器激發(fā)光源：新的研發(fā)的SPECTRO高效等離子發(fā)生器激發(fā)光源可以提供穩(wěn)定的火花放電。采用全數(shù)字信號發(fā)生和激發(fā)過程控制，激發(fā)區(qū)域的等離子能量可以高精度、高保真輸出。由于具備了全新的激發(fā)參數(shù)設置以及高純度的信號輸出，激發(fā)光源的精度得以明顯提析精度因此明顯提析周期較大程度縮短。對于標準應用程序，每次分析時間不超過18秒。
分析性能
根據(jù)用戶需求，量身定制。十種標準基體鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅,可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀和釕組合配置。在 CCD 光學系統(tǒng)中可以實現(xiàn)120-780nm波長范圍內所有元素的全譜記錄。在光電管光學系統(tǒng)中多可以放置108個高性能光電備增管通道，每個通道配有微積分器（TRS功能）和單火花評估（SSE功能）。由此可以保證每一分析要求得以佳化滿足。配備新現(xiàn)代化的光譜技術和高質量的組成部件，SPECTROLAB適用于各種分析要求。出眾的分析性能與高度靈活性相結合，能夠勝任諸如：過程控制分析，來料及成品檢驗，研究開發(fā)部門、檢驗檢測機構等各方面分析任務。
讀出系統(tǒng)
新設計的讀出系統(tǒng)可以同時處理來自光電管檢測器和CCD檢測器的信號。共有22塊（加第三光學系統(tǒng)共37塊）CCD檢測器，每個CCD包括3800像素，類似全譜波長掃描，測量后大量數(shù)據(jù)結果可以集中顯示。這為材料研究（如未知材料判定，新合金配方等）提供了新的分析手段。日常分析過程基于選定的光譜線，只有元素的信號被采集。這可以實現(xiàn)瞬時信號的實時采集。分析結果可以取自整個測量過程中某一時序的瞬時信號測定。根據(jù)應用要求，某些光譜線采用光電倍增管測量。光電流由微積分器處理，可以實現(xiàn)微秒級測量，每一單個火花放電過程可進行100次以上的步進測量，每個光電管通道的光譜峰值由步進過程描跡而成。實現(xiàn)這些步進過程測量以后，就可以根據(jù)需要定義測量“窗口"為其中某一時段動態(tài)范圍或較好信背比時段（痕量火花分析技術SAFT）,用以分析微量元素。相對于傳統(tǒng)的積分測量技術，現(xiàn)在可以測量每一單個火花的放電信號，而不是將千百次火花放電的總信號量積分成一個總量。由此實現(xiàn)剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗"放電信號。SSE單火花評價技術可以明顯提較高的析性能?？梢园凑辗治鲆蠓謩e定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能，也可以在一個分析周期內多次定義。這一靈活性可以在短的分析時間內獲得佳分析結果。
技術參數(shù)
多光學系統(tǒng)：帕邢—龍格結構，光柵焦距 750 mm，羅蘭圓，光學系統(tǒng)恒溫
分析波長范圍：120-780 nm
的氬氣自動循環(huán)氣體凈化系統(tǒng)，用于分析小于200 nm波長的譜線
光路氬氣沖洗系統(tǒng)
全息原級光柵 3600，2924線／毫米
光柵材料：微晶石英
主光學系統(tǒng)：3600線／毫米光柵，0.37 nm／mm (1級光譜)2924線／毫米光柵，0.46／0.23 nm／mm(1／2 級光譜)第三光學系統(tǒng)400 mm焦距2400線／毫米光柵，1.04 nm／mm (1級光譜)
熱量吸收裝置，無需水冷卻
采光快門優(yōu)化觀測角度激發(fā)系統(tǒng)：全數(shù)字等離子發(fā)生器。數(shù)字放電參數(shù)設定，數(shù)字脈沖發(fā)生器，數(shù)字離線脈沖控制，32MHz微處理器控制，采樣速率：200微秒400次，能量分辨率：125毫瓦，長單次火花放電時間：4000微秒，火花功率：4千瓦
光電管和CCD系統(tǒng)平行運行，平行12 Bit模數(shù)轉換器，每個信道1 MHz
系統(tǒng)和操作過程自動診斷
外置計算機控制：Windows操作系統(tǒng) 鍵盤和鼠標 打印機
電源要求：230 VAC -15％／+10％，50 HZ
待機功率 0.5 kVA 激發(fā)功率 1.0 kVA 16 A 慢熔保險絲
儀器尺寸：1674× 771× 1409毫米(長×寬×高)
重量：重約520kg(不包括附屬設備)
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