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上海沛沅儀器設備有限公司
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產品型號
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所 在 地上海
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更新時間：2024-07-30 07:42:39瀏覽次數(shù)：194次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復性很好。
產品特點● 4/6/8英寸兼容，單片晶圓真空傳輸系統(tǒng)
● 低成本高可靠，適合研發(fā)及小規(guī)模生產
● 設備結構簡單，外形小
● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕
● 優(yōu)異的刻蝕均勻性，刻蝕速率快
●滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統(tǒng)
● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
● 斷面輪廓可控性高，刻蝕表面平整光滑
技術參數(shù)晶圓尺寸：4/6/8英寸兼容
適用工藝：等離子體刻蝕
適用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.
應用領域適用領域：化合物半導體，MEMS、功率器件、科研等領域
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