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蘇州市金派氣體設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2023-02-24 14:39:46瀏覽次數(shù)：278次
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氮?dú)饧兓O(shè)備技術(shù)指標(biāo)：純度:≥99.9995%氧含量:≤5ppm氫含量:500ppm-5%(可調(diào))露點(diǎn):≤-70℃特點(diǎn)：采用高效催化劑除氧，不需活化，除氧范圍廣，適用于含氧量較高，對(duì)過量氫不作要求的工藝生產(chǎn)
技術(shù)指標(biāo)：
純度:≥99.9995%
氧含量:≤5ppm
氫含量:500ppm-5%(可調(diào))
露點(diǎn):≤-70℃
特點(diǎn)：
采用高效催化劑除氧，不需活化，除氧范圍廣，
適用于含氧量較高，對(duì)過量氫不作要求的工藝生產(chǎn)。
工藝流程
| 技術(shù)指標(biāo)： 純度:≥99.9995% 氧含量:≤5ppm 氫含量:500ppm-5%(可調(diào)) 露點(diǎn):≤-70℃ 特點(diǎn)： 本工藝適用于加過量氫除氧后再除氫和加欠量氫后再深度除氧的兩種方式，純化后氮?dú)庵兄缓形⒘垦鯕夂臀⒘繗錃?，適用于對(duì)過量氫有一定要求的工藝場(chǎng)合。 | |
| 3、JPDC-C型氮?dú)饧兓b置 | |
| 技術(shù)指標(biāo)： 技術(shù)指標(biāo)： |
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