污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
日立高新技術(shù)（上海）國際貿(mào)易有限公司北京分公司
會(huì)員1.png)
日立高新技術(shù)（上海）國際貿(mào)易有限公司北京分公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2023-08-31 19:39:37瀏覽次數(shù)：200次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時(shí)樣品加工更簡單。
ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。
它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。
高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時(shí)樣品加工更簡單。
新研發(fā)的PLUSII離子槍發(fā)射出高電流密度離子束，大幅提高*2了研磨速率。
截面研磨結(jié)果對比
(樣品：自動(dòng)鉛筆芯、研磨時(shí)間：1.5小時(shí))
本公司產(chǎn)品IM4000PLUS
ArBlade 5000
使用廣域截面研磨樣品座，加工寬度可達(dá)8 mm，十分適用于電子元件等的研磨。
IM4000系列復(fù)合型(截面研磨、平面研磨)離子研磨儀。
可根據(jù)需求對樣品進(jìn)行前處理。
切割或機(jī)械研磨難以處理好的軟材料或復(fù)合材料的截面制作
機(jī)械研磨后樣品的精修或表面清潔
截面研磨加工示意圖
平面研磨加工示意圖
| 通用 | |
|---|---|
| 使用氣體 | Ar(氬)氣 |
| 加速電壓 | 0～8 kV |
| 截面研磨 | |
| 研磨速率(材料Si) | 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1 |
| 研磨寬度 | 8 mm*2 |
| 樣品尺寸 | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
| 離子束間歇加工功能 | 標(biāo)準(zhǔn)配置 |
| 擺動(dòng)角度 | ±15°、±30°、±40° |
| 平面研磨 | |
| 加工范圍 | φ32 mm |
| 樣品尺寸 | φ50 × 25(H) mm |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X 0～+5 mm |
| 離子束間歇加工功能 | 標(biāo)準(zhǔn)配置 |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 1 r/m、25 r/m |
| 傾斜角度 | 0～90° |
| 項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
|---|---|
| 高耐磨遮擋板 | 耐磨遮擋板是標(biāo)準(zhǔn)遮擋板的2倍左右(不含鈷) |
| 加工監(jiān)測用顯微鏡 | 放大倍率 15×～100× 雙目型、三目型(可加裝CCD) |
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗(yàn)證碼
