EPMA-8050G電子探針顯微分析儀島津能夠提供鋼鐵、有色金屬、環(huán)境、食品、化工、制藥、半導(dǎo)體、陶瓷及高分子等眾多領(lǐng)域客戶,多種樣品分析所需要的種類繁多的分析儀器。電子探針（EPMA）分析對象從幾厘米到幾微米；X射線光電子能譜儀（XPS）分析對象從幾毫米到幾微米；掃描探針顯微鏡（SPM）觀察范圍從100微米到幾納米。

詳細(xì)介紹

EPMA-8050G電子探針顯微分析儀

“The Grand EPMA" 誕生

搭載zui*場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)
將島津EPMA分析性能發(fā)揮到*

從SEM觀察條件到1μA量級(jí)，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的*場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀，將分析性能發(fā)揮至*。

當(dāng)之無愧的“The Grand EPMA" ，zui高水準(zhǔn)的EPMA誕生！

超高分辨率面分析對碳膜上Sn球放大3萬倍進(jìn)行面分析。即使是SE圖像（左側(cè)）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側(cè)）上也是清晰可見。

*zui技術(shù)實(shí)現(xiàn) ■ 的空間分辨率 EPMA可達(dá)到的zui高級(jí)別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率。（加速電壓10kV時(shí)20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA） ■ 二次電子圖像zui高分辨率3nm** 碳噴鍍金顆粒的觀察實(shí)例。實(shí)現(xiàn)zui高分辨率 3nm（@30kV）。相對較高的束流也可將電子束壓細(xì)聚焦，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像。	■ 大束流超高靈敏度分析實(shí)現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的zui大束流。全束流范圍無需更換物鏡光闌。 ■ zui多可同時(shí)搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀無人可及的52.5°X射線取出角。 4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。 zui多可同時(shí)搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。 ■ 全部分析操作簡單易懂全部操作僅靠一個(gè)鼠標(biāo)就可進(jìn)行的*可操作性。追求「易懂」的人性化用戶界面。搭載導(dǎo)航模式，自動(dòng)指引直至生成報(bào)告。
超高靈敏度面分析使用1μA束流對不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側(cè)），同時(shí)也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側(cè)）。

實(shí)現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的*技術(shù)

1　高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流。

2　 EPMA電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點(diǎn)的（日本：第4595778號(hào)）。簡單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時(shí)全部電流條件下設(shè)定zui合適的打開角度，將電子束壓縮到zui細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

3　超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到zui小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀
zui多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí)，又可減小樣品對X射線的吸收，實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。

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