LIC770/01 光源發(fā)射器 德國EMG  原裝現(xiàn)貨

光發(fā)射器集成，由光源（激光器或發(fā)光二極管）及其驅(qū)動電路（有時也加監(jiān)控或其它電路）組成的具有光發(fā)射功能的混合集成模塊或單片集成組件。

簡介

發(fā)射器類型

首先在SI襯底上腐蝕出一個槽而,讓槽的深度等于激光器的厚度。在槽里生長激光器的外延層,然后二次外延生長FE獷r結(jié)構(gòu)。這里由于采用了二次外延技術(shù),增加了工藝的難度,因而降低了可乖復(fù)性。光電子器件的厚度為3一6“m,比電子器件大許多倍,這給光刻和連線帶來了困難,為解決這一矛后采用了電化學(xué)拋光和選擇腐蝕。襯底材料和外延層對OEIC的制造都非常重要,為了獲得長壽命和較好的工作特性,要求襯底材料必須具有大面積均勻、高純度及較低的位惜和缺陷密度。外延層通常用于制作光電器件,目前用LFE法生長的激光器和探測器已可以得到較高的量子效率,用MBE和MOCVD的方法不僅可以得到較高光學(xué)質(zhì)量的晶體,而且具有高均勻性和可重復(fù)性,因而更適合于OEIC的制作。激光器是OEIC中非常重要的一部分,它必須滿足以下要求:(1)低閥值電流,(2)閥值電流對溫度的依存關(guān)系較弱,(3)穩(wěn)定的單模和窄譜線輸出,(4)高調(diào)制速率。從低閥值電流的角度來看,掩埋型異質(zhì)結(jié)構(gòu)(EH)激光器較為理想,而且許多已做出的OEIC就是采用的BH-LD,不過由于BH-LD制作復(fù)雜,所以也采用了許多結(jié)構(gòu)簡單的激光器

EMG LIC1075/11光源發(fā)射器

EMG 對中光源發(fā)射器 LIE 1075/230/50

 EPC測量單元 EVK2-CP_600.71_L_R_A_Version_02

EMG 光源發(fā)射器 L1C770/01-24VDC/3.0A

EMG LPS600.01 光源發(fā)射器

EMG  LIC770/01 光源發(fā)射器

EMG LIC1075/01 光源發(fā)射器

EMG LIC770/11  CPC高頻光源

EMG LID2-800.32C 對中光源發(fā)射器

EMG SV1-10/16/100/1/D 伺服閥

 伺服閥 SERVOVENTIL SV1-06/05/210/5

EMG SV1-10/32/315/6 伺服閥

EMG SV1-10/8/315/6 伺服閥

EMG SV1-10/16/120/6 伺服閥

EMG SV1-10/48/315-6 伺服閥

EMG SV1-10/4/315/6 伺服閥

EMG SV1-10/4/100/6伺服閥

EMG SV1-10/8/100/6伺服閥

EMG SV1-10/16/100/6 伺服閥

EMG 伺服閥 SV1-10/8/100-6

EMG 伺服閥 SV1-10/16/315/6

EMG傳感器CCD pro-5000

EMG SV1-10/16/315/8 伺服閥

EMG SV1-10/16/315/6伺服閥

SMI-HR/500/2400/1700/200/A/傳感器

伺服閥 CPSV-F040-LTQ-10/7P

傳感器 SMI 1-53

BMI4/60/80 傳感器

EMG SV1-10/48/315/6伺服閥

EMG SV1-10/32/100/6伺服閥

EMG傳感器 BMI4/60/80/L/S.723

EMG傳感器 BMI4/60/80/R/S.723

激光發(fā)射器是一種產(chǎn)生準(zhǔn)直、單色和相干光束的電子光源器件。在過去的數(shù)十年中，激光發(fā)射器發(fā)展出了很多的種類，同時應(yīng)用范圍不斷擴大，在科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)、通信和工業(yè)等領(lǐng)域發(fā)揮著重要的作用。下面一起從幾個方面來了解這個工業(yè)之光。