E+H公司推出的多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55是業(yè)界集導(dǎo)波雷達(dá)和電容測(cè)量原理于一體，專門用于界面高精度測(cè)量的物位儀表。E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)x革命性的測(cè)量方案一舉解決了現(xiàn)有測(cè)量手段應(yīng)對(duì)復(fù)雜界面檢測(cè)固有的限制，真正實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)儀表“全工況"界面測(cè)量：精度高、穩(wěn)定性好、重復(fù)性優(yōu)異的目標(biāo)。E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55克服了電容和導(dǎo)波雷達(dá)單獨(dú)測(cè)量界面的局限性，充分發(fā)揮了二種測(cè)量原理的優(yōu)勢(shì)。

E+H公司推出的多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55是業(yè)界集導(dǎo)波雷達(dá)和電容測(cè)量原理于一體，專門用于界面高精度測(cè)量的物位儀表。E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55的優(yōu)點(diǎn)：可靠的測(cè)量——用于帶乳化層的界面測(cè)量、用于 動(dòng)態(tài)液面和泡沫液面的液位測(cè)量、用于變化中的介質(zhì)測(cè)量；實(shí)用性強(qiáng)；內(nèi)置數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器；工廠預(yù)標(biāo)定；直觀的菜單引導(dǎo)式操作，多種語(yǔ)言可選；便于集成到控制或資產(chǎn)管理系統(tǒng)中；精確的測(cè)量和過程診斷，便于快速?zèng)Q；認(rèn)證: ATEX, IEC Ex, FM, CSA

E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55的應(yīng)用領(lǐng)域
FMP55 - 采用帶涂層的多參數(shù)探頭，是油氣、化工和電力行業(yè)界面測(cè)量的*儀表
采用冗余的測(cè)量系統(tǒng)，獲得安全可靠的界面和總物位的測(cè)量值.
測(cè)量范圍zui大10 m (33 ft)
過程連接：法蘭
測(cè)量溫度: -50～+200 °C (-58 ～ +392 °F)
壓力范圍: -1 ～ 40 bar (-14.5 ～ 580 psi)
具有下列系統(tǒng)集成通信接口:
- 4-20mA HART模擬接口
- PROFIBUS PA接口
用于物位監(jiān)測(cè)時(shí)，符合SIL2要求，由TüV獨(dú)立評(píng)估，符合IEC 61508標(biāo)準(zhǔn)

E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55革命性的測(cè)量方案一舉解決了現(xiàn)有測(cè)量手段應(yīng)對(duì)復(fù)雜界面檢測(cè)固有的限制，真正實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)儀表“全工況”界面測(cè)量：精度高、穩(wěn)定性好、重復(fù)性優(yōu)異的目標(biāo)。除了設(shè)計(jì)理念的革新，E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)x在研發(fā)之初即充分考慮到現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用、實(shí)際維護(hù)與實(shí)時(shí)測(cè)量的復(fù)雜性與多變性，在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、軟件運(yùn)算和數(shù)據(jù)維護(hù)等方面進(jìn)行了全面的升級(jí)和提高。

       在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上，E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55采用了同軸探頭搭配雙腔殼體。同軸型結(jié)構(gòu)既保證構(gòu)成穩(wěn)定的電容測(cè)量，也實(shí)現(xiàn)了導(dǎo)波雷達(dá)測(cè)量低介電常數(shù)介質(zhì)液面的要求，確保液面和界面測(cè)量更穩(wěn)定、更精準(zhǔn)。本安的電子腔室與隔爆的電源腔室相互隔離，確保在防爆場(chǎng)合亦可以打開電子腔室進(jìn)行儀表操作?？尚D(zhuǎn)360度的表頭以及具備45度仰角的顯示窗口，極大的便利了現(xiàn)場(chǎng)接線、調(diào)試等操作。不僅如此，F(xiàn)MP55還采用了先進(jìn)的技術(shù)，實(shí)現(xiàn)更換電子插件后不再需要重新調(diào)試和設(shè)置參數(shù)，一分鐘即可做到儀表重新恢復(fù)到正常工作狀態(tài)。解決了用戶不會(huì)調(diào)試的后顧之憂，大大方便了用戶。由于FMP55實(shí)現(xiàn)了高度的數(shù)字化和智能化，內(nèi)部預(yù)置了豐富的高級(jí)預(yù)診斷功能，為儀表安全可靠運(yùn)行提供了保障。

       在液位和界面信號(hào)識(shí)別方面上，E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55運(yùn)用了靜態(tài)和動(dòng)態(tài)算法相結(jié)合的算法，能動(dòng)態(tài)跟蹤并記錄界面回波的歷史運(yùn)動(dòng)軌跡，精確定位出界面的位置。更先進(jìn)的設(shè)計(jì)是：當(dāng)被測(cè)界面由于各種原因變得不清晰時(shí)，如出現(xiàn)乳化層時(shí)，為了應(yīng)對(duì)導(dǎo)波雷達(dá)在這種情況下會(huì)發(fā)生失波的可能，儀表內(nèi)部的智能界面信號(hào)識(shí)別系統(tǒng)會(huì)不斷評(píng)估當(dāng)前界面回波的質(zhì)量，利用電容測(cè)量值進(jìn)行自動(dòng)補(bǔ)償，確保持續(xù)穩(wěn)定測(cè)量，從而實(shí)現(xiàn)了“全工況”的界面測(cè)量。

       總之，E+H多參數(shù)界面測(cè)量?jī)xFMP55克服了電容和導(dǎo)波雷達(dá)單獨(dú)測(cè)量界面的局限性，充分發(fā)揮了二種測(cè)量原理的優(yōu)勢(shì)，結(jié)合先進(jìn)算法實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜工況下的界面測(cè)量，開創(chuàng)了界面測(cè)量的先河，為自動(dòng)化領(lǐng)域的界面測(cè)量增添了一種全新的、更為可靠、穩(wěn)定的解決方案。