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上海昊量光電設(shè)備有限公司


納米表面輪廓儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

納米表面輪廓儀IMOS納米表面輪廓儀實(shí)現(xiàn)了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測(cè)量和表征微和納米尺度的表面特征,在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達(dá)200萬(wàn)個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)

詳細(xì)介紹

納米表面輪廓儀

IMOS納米表面輪廓儀實(shí)現(xiàn)了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測(cè)量和表征微和納米尺度的表面特征,在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達(dá)200萬(wàn)個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)。選擇正確的光學(xué)輪廓儀系統(tǒng)取決于您的應(yīng)用程序的要求,包括速度、精度、垂直范圍、自動(dòng)化和靈活性。

IMOS光學(xué)表面輪廓儀在非接觸式光學(xué)表面輪廓方面提供了強(qiáng)大的通用性。有了該系統(tǒng),它可以方便快捷地測(cè)量各種表面類(lèi)型,包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯。所有的測(cè)量都是無(wú)損的,快速的,不需要特殊的樣品準(zhǔn)備。納米表面輪廓儀系統(tǒng)的核心是部分相干光干涉技術(shù),它提供亞納米精度測(cè)量更廣泛的表面比其他商業(yè)可用技術(shù)。


IMOS 納米表面輪廓儀提供了不同的應(yīng)用程序的特殊價(jià)值,如平直,粗糙度,波浪形,臺(tái)階高度等等。
IMOS 納米表面輪廓儀配備了一個(gè)頭,可以填充離散變焦光學(xué)定制的系統(tǒng)。樣本分段配置范圍從自動(dòng)化到自動(dòng)化的編碼行程。

IMOS 納米表面輪廓儀提供高精度測(cè)量,易于使用,快速測(cè)量,及吸引力的價(jià)格,使其成為多功能3D光學(xué)輪廓儀的理想選擇。


主要優(yōu)點(diǎn):

  • 納米模式下的Z軸分辨率:

           ~ 30pm微起伏模式(使用原子級(jí)光滑鏡)

             ~ 0.3um微地貌模式下

  • 外形緊湊;

  • 快速響應(yīng);

  • 抗外部振動(dòng);

  • 測(cè)量過(guò)程自動(dòng)化程度高;

  • 特殊的用戶(hù)友好的界面;

  • 高質(zhì)量的圖形界面,以工作與多計(jì)劃三維表示的測(cè)量結(jié)果;

  • 廣泛的可能性配置的顯微鏡,以各種形態(tài)-邏輯的測(cè)量表面;

  • 能夠工作在兩種模式:微浮雕和納米浮雕;

  • 的存儲(chǔ)系統(tǒng)和測(cè)量結(jié)果的系統(tǒng)化。


在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm硅晶體表面的階地,高度為0.314nm在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm

微起伏模式下的測(cè)量結(jié)果

IMOS納米表面輪廓儀組成 

                    光電探測(cè)器*
矩形-1392*1040 px
光源 * 
LED (λeff = 630 nm)
顯微物鏡*
20x (or 10x, 5x) 2 items
放大率不變
                                     掃描

位移臺(tái)


  • 1d (Z) range 50 mm 

  • 2d (XY) range 75x50 mm


控制器
  • CCD-相機(jī)抓幀器

  • 位移臺(tái)控制器

  • 設(shè)備控制器 

硅晶體表面的階地,高度為0.314nm   
                                       計(jì)算機(jī) 
軟件
  • Software for working with IMOS

  • System / MS Windows

 
認(rèn)證口徑,標(biāo)稱(chēng)高度值為101nm±3%
* – 按客戶(hù)需求 


微地貌模式下的測(cè)量結(jié)果

技術(shù)指標(biāo)

                             測(cè)量區(qū)域 
0,4x0,3 mm2 (for 20X
像素尺寸 
0,3 μm (for 20X
橫向分辨率
Not worse 1 μm 
測(cè)量模式 
  • 微地貌模式

  • 微起伏模式 

認(rèn)證口徑, 厚 40 ± 1,2 μm   
                            Z軸分辨率
  • 微地貌模式 ~ 0,3 μm

  • 微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror) 

測(cè)量范圍 
  • 微地貌模式 up to 50 mm

  • 微起伏模式 up to 20 μm 

測(cè)量速度 
  • 微地貌模式 ~ 4 μm/s

  • 微起伏模式 ~ 20 μm/10s 

衍射元件, 厚 3,7 μm   




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