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廣州市固潤光電科技有限公司


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嵌入式膜厚儀-橢偏儀-膜厚測量儀-橢圓偏振光譜儀

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產(chǎn)品型號FE-5000/5000S

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時間:2022-11-13 15:38:11瀏覽次數(shù):248次

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商鋪產(chǎn)品:80條

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產(chǎn)品簡介

橢圓偏振法測量當(dāng)線性偏振光照射到樣品時反射光(橢圓偏振)時偏振的變化。 當(dāng)s和p波根據(jù)樣本分別改變其相位和反射幅度時,可以獲得量化偏振變化的幅度比“tanψ"和相位差“cosΔ"。 tanψ,cosΔ稱為“橢圓參數(shù)",其光譜通過“光譜橢偏儀"進行測量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚測量儀除了基本的光譜橢圓儀系統(tǒng)外,自動角度調(diào)節(jié)機構(gòu)還可以針對各種厚度進行高精度的膜厚測量。 可拆卸的緩速......

詳細(xì)介紹

嵌入式膜厚儀-橢偏儀-膜厚測量儀-橢圓偏振光譜儀 產(chǎn)品描述:

嵌入式膜厚儀-橢偏儀-膜厚測量儀-橢圓偏振光譜儀 是測量當(dāng)線性偏振光照射到樣品時反射光(橢圓偏振)時偏振的變化。當(dāng)s和p波根據(jù)樣本分別改變其相位和反射幅度時,可以獲得量化偏振變化的幅度比“tanψ"和相位差“cosΔ"。 tanψ,cosΔ稱為“橢圓參數(shù)",其光譜通過“光譜橢偏儀"進行測量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚測量儀除了基本的光譜橢圓儀系統(tǒng)外,自動角度調(diào)節(jié)機構(gòu)還可以針對各種厚度進行高精度的膜厚測量。 可拆卸的緩速器和旋轉(zhuǎn)分析儀還拓寬了可供測量的選擇范圍,并提高了測量精度。測量范圍包括:橢圓參數(shù)(tanψ,cosΔ),光學(xué)常數(shù)分析(和:折射率,k:消光系數(shù)),厚度分析。

嵌入式膜厚儀-橢偏儀-膜厚測量儀-橢圓偏振光譜儀

產(chǎn)品亮點:

  • 橢圓光度法測量可見光和紫外線范圍(250-800nm)
  • 納米級薄膜厚度
  • 使用多通道光譜儀(超過400ch)進行快速測量
  • 角度可調(diào)機構(gòu)進行詳細(xì)分析
  • 通過光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和配方注冊功能實現(xiàn)高度可操作性
  • 使用多層擬合分析進行光學(xué)常數(shù)測量,以控制膜厚度和膜性能

應(yīng)用范圍

  • 半導(dǎo)體晶圓(柵氧化薄膜,氮化膜 SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,多晶硅,ZnSe,BPSG,TiN 每種波長下抗蝕劑的光學(xué)常數(shù))
  • 復(fù)合半導(dǎo)體(AlxGa(1-x)As多層膜,非晶硅)
  • FPD(平板顯示器)(定向膜 ITO,MgO用于等離子顯示器)
  • 新材料(DLC(類金剛石),超導(dǎo)薄膜,磁頭薄膜)
  • 光學(xué)薄膜(TiO2,SiO2,多層膜,減反射膜,反射膜)
  • 平版印刷(g射線(436nm),h射線(405nm),i射線(365nm),KrF(248nm)的光學(xué)常數(shù) 每種波長下抗蝕劑的光學(xué)常數(shù))

技術(shù)參數(shù):

  • 測量樣品:反光樣品
  • 樣品尺寸:100x100mm
  • 基本原理:旋轉(zhuǎn)分析儀方法
  • 膜厚范圍:0.1 nm
  • 照射(反射)角度:45~90°
  • 照射(反射)角驅(qū)動方式:自動正弦驅(qū)動
  • 點徑:φ2.0/1.2
  • tanψ精度:< ±0.01
  • cosΔ精度:< ±0.01
  • 可重復(fù)性:< 0.01%
  • 波長范圍:300-800nm/250-800 nm
  • 探測器:多色儀(PDA, CCD)
  • 光源:高穩(wěn)定性氙氣燈
  • 平臺驅(qū)動方式:手動/自動
  • 尺寸:650(W)×400(D)×560(H)mm/1300(W)×900(D)×1750(H)mm
  • 重量:50kg/350kg
  • 軟件分析:最小二乘薄膜分析(反射系數(shù)模型函數(shù),Cauchy色散模型,nk-Cauchy色散模型)
  • 理論分析(體表面分析(n.k.),角度相關(guān)性的同時分析

測量案例:

使用梯度模型進行ITO結(jié)構(gòu)分析—應(yīng)用FE0006。ITO(銦錫氧化物)是用于LCD顯示器等平面顯示器的透明電極材料。 ITO的成膜后,通過退火處理(熱處理),可以提高ITO的導(dǎo)電性和色相。 那時,ITO的氧狀態(tài)和結(jié)晶狀態(tài)將發(fā)生變化。 該變化趨于相對于膜厚度逐步獲得斜率變化,并且它不會變成光學(xué)組成均一的單層。 我們想介紹一種使用梯度模型來測量上下表面nk的傾斜度的情況。

嵌入式膜厚儀-橢偏儀-膜厚測量儀-橢圓偏振光譜儀 一 嵌入式膜厚儀-橢偏儀-膜厚測量儀-橢圓偏振光譜儀 二

標(biāo)簽:膜厚測試儀


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