污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
磐石創(chuàng)新（江蘇）電子裝備有限公司
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更新時間：2022-10-21 15:55:22瀏覽次數(shù)：195次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線PS-200單靶磁控濺射鍍膜機(jī)
設(shè)備簡介
PS-200單靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由真空室、磁控靶、旋轉(zhuǎn)基片架、真空系統(tǒng)、機(jī)架、電器控制等幾大部分組成?？捎脕碇苽鋵?dǎo)電膜、金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜、多層膜等。設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小適合高校實驗室及科研院所。
環(huán)境要求
供電：AC220V，功率≥20KVA
獨立地線：＜3Ω，從設(shè)備到地線連接建議采用≥10mm2 的扁平銅線
供水：流量≥10L/min 水溫0～25℃
室溫：＜30℃
相對濕度：＜75%
高純氬氣
室內(nèi)無腐蝕易燃、易爆、有毒氣體，無大的塵埃。
技術(shù)參數(shù)
| 真空室尺寸（內(nèi)徑X高） | Ф200×200mm |
| 極限真空 | 2X10-4 Pa |
| 恢復(fù)工作真空 | 從大氣抽至8X10-4 Pa,≤40min |
| 工作真空 | ≤6X10-1Pa |
| 升壓率 | ≤8X10-1Pa/h |
| 基片架旋轉(zhuǎn)速度 | 2～20rpm可調(diào) |
| 靶-片距 | 80～120mm |
| 真空系統(tǒng) | 分子泵：FF63/80 型 62 L/S |
| 機(jī)械泵：TRP-12型 3L/S | |
| 總功率 | 20KVA |
| 設(shè)備占地尺寸 | 800X800 |
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