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光譜橢偏儀

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更新時間:2022-12-31 17:23:37瀏覽次數(shù):406次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹:光譜橢偏儀是一種靈活的光學技術,可用于確定薄膜材料的光學和物理性能

詳細介紹

產(chǎn)品介紹:

光譜橢偏儀是一種靈活的光學技術,可用于確定薄膜材料的光學和物理性能。在沒有接觸或損害材料的情況下,它的技術已經(jīng)應用于研發(fā)實驗室和用于監(jiān)測薄膜生長和沉積過程的制造設備。依賴于樣品反射的偏振光束的偏振狀態(tài)的確定。當進行SE測量時,在寬波長范圍內(nèi)的許多波長處確定偏振狀態(tài)。通過模型可以將偏振狀態(tài)的變化追溯到薄膜的物理性質(zhì)。材料的層厚、表面粗糙度、折射率(n)和消光系數(shù)(k)等特性可以通過回歸分析精度確定。SE儀器使用白光源,并選擇單獨的波長進行電機驅(qū)動單色儀或可同時檢測多個波長的多通道檢測器進行檢測。增加采集數(shù)據(jù)的角度和波長數(shù)量可提高分析精度,復雜的層結構。

產(chǎn)品參數(shù):

波長范圍

250~1100mm

光斑尺寸

1~5mm

試樣尺寸

直徑達300mm

測量厚度范圍

高達10μm

測量時間

典型的1s每次

角度范圍

1090 5度為一個間隔

精度

優(yōu)于0.25%

重復性

1A

主要應用:

1.光刻膠、聚酰亞胺、氧化物、氮化物

2.光學涂層,TiO2,SiO2,Ta2O5 .....

3.半導體化合物,細胞間隙

4.功能薄膜在MEMS/MOEMS

5.薄膜晶體管(TFT)棧

6.導電氧化物:氧化銦錫

7.涂層的科研

8.非晶、納米晶薄膜

9.薄金屬層


關鍵詞:橢偏儀
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