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離子濺射儀

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更新時(shí)間：2022-10-31 15:47:54瀏覽次數(shù)：235次

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南京南大儀器有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品介紹：LZ-Ⅱ離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺(tái)上樣品表面成膜，形成導(dǎo)電層。

詳細(xì)介紹

LZ-Ⅱ離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺(tái)上樣品表面成膜，形成導(dǎo)電層。

用途：

　　LZ-Ⅱ離子濺射儀是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等儀器進(jìn)行試樣制備，是開展教學(xué)科研實(shí)驗(yàn)的儀器。

　　鍍膜原理與結(jié)構(gòu)：

　　該離子濺射儀為二極結(jié)構(gòu)，以基臺(tái)和樣品架為正電極與儀器外殼相連并接地，濺射靶電極為負(fù)電極(加負(fù)高壓)，它們被安裝在玻璃罩的真空腔內(nèi)，當(dāng)腔內(nèi)達(dá)到一定真空度，在負(fù)高壓的作用下發(fā)生輝光放電產(chǎn)生等離子體，其中正離子在電場(chǎng)加速下，獲得足夠能量轟擊負(fù)電極上的靶面，靶面被濺射原子沉淀于基臺(tái)的樣品表面形成導(dǎo)電膜，以供上述儀器分析。

　　技術(shù)參數(shù)：

　　1、型號(hào)：

　　1、真空腔：￠150×12 硼酸硅質(zhì)玻璃

　　2、濺射靶尺寸：￠55×0.3

　　3、基臺(tái)：￠50 6-8個(gè)樣品

　　4、極間距調(diào)節(jié)范圍20-40mm

　　5、濺射電壓： -2000V-0 DC連續(xù)可調(diào)

　　濺射電流0-30 mA

　　6、定時(shí)器：0-99分?jǐn)?shù)字顯示

　　7、真空測(cè)量：1×105-1.0×10-1pa 數(shù)字顯示，單片機(jī)控制，數(shù)字顯示，具有真空保護(hù)鎖設(shè)置。

　　8、控制系統(tǒng)：?jiǎn)纹瑱C(jī)控制，完成真空自動(dòng)測(cè)量、顯示、定時(shí)器倒計(jì)時(shí)功能以及自動(dòng)完成鍍膜程序。

　　9、真空泵：2L/S二級(jí)旋片式直聯(lián)機(jī)械泵，極限真空度6×10-1pa