208HR 高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。場發(fā)射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到最小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。分類：電鏡制樣設備, 鍍膜儀標簽：離子濺射儀, 鍍膜儀, ......

詳細介紹

描述

208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。

場發(fā)射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到最小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。

208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進行精確控制，并減小充電效應。高/低樣品室的結構設計使靶材和樣品之間的距離調節(jié)變得極為方便。

MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進行精確控制，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。

場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：

Pt/Pd：非導電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
Cr：優(yōu)良的半導體樣品的鍍膜材料
Ir：優(yōu)良的真正無細晶的鍍膜材料

208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標準的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

一、主要特性

· 可選擇多種鍍膜材料

· 精確的膜厚控制

· 樣品臺控制靈活：可對樣品臺進行獨立的旋轉、行星式轉動、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。

· 多個樣品座：提供4個樣品座，每個樣品座直徑32mm，可裝載多達6個小樣品座。

· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）

· 寬范圍的操作壓力：獨立的功率和壓力調節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 – 0.005 mbar。

· 緊湊、現(xiàn)代的桌上型設計

· 操作容易

二、技術參數(shù)

濺射系統(tǒng)
鍍膜頭	低電壓平面磁控管靶材更換快速環(huán)繞暗區(qū)護罩靶材調節(jié)遮擋
靶材	Cr, Pt/Pd (標配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti（選配）
鍍膜控制	微處理器控制安全互鎖電流控制與真空度無關數(shù)字化可選電流（20，40，60 和 80mA）
樣品室大小	直徑150mm 高度165 – 250mm
樣品臺	非重復的旋轉、行星式轉動，并可手動傾斜0-90° 轉動速度可調晶體頭 4個樣品臺
模擬計量	真空 Atm – .001mb 電流 0-100mA
控制方法	自動氣體凈化和泄氣功能自動處理排序帶有“暫停"功能的數(shù)字計時器自動放氣
膜厚控制	MTM-20高分辨膜厚控制儀
真空系統(tǒng)
結構	分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合，代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配）
抽真空速度	0.1mb 下300 l/min
抽真空時間	1 mbar 至 1 x 10^-3mbar
極限真空	1 x 10^-5mbar
桌上型系統(tǒng)	旋葉泵置于抗震臺上，全金屬真空耦合系統(tǒng)
膜厚測控儀
MTM-20	基于微處理器，4位數(shù)字顯示，復位按鈕， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能），5次/s的更新速率
膜厚范圍	0.0 – 999.9nm
分辨率	優(yōu)于 0.1nm
密度范圍	0.50 – 30.00gm/cm³
修正系數(shù)范圍	0.25 – 8.00
鍍膜終止范圍	膜厚0 – 999.9nm
系統(tǒng)要求
電氣	100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz
功率	550VA（）
氬氣	最小純度99.995% 調節(jié)壓力 5 – 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID連接軟管

關鍵詞：離子濺射儀渦輪泵真空泵

其他推薦產品更多>>

薦

JYSC-1000鍍膜儀（離子濺射儀）
面議
查看詳情我要詢價

薦

208HR 高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）
面議
查看詳情我要詢價

薦

108Auto 離子濺射儀（噴金儀）
面議
查看詳情我要詢價

薦

108auto SE離子濺射儀
面議
查看詳情我要詢價