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RIE-24000反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(帶Load_Lock裝置)

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更新時(shí)間：2022-12-09 16:23:40瀏覽次數(shù)：291次

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北京金盛微納科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作

詳細(xì)介紹

本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺。

本設(shè)備通過對真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量及工藝過程的全自動控制，以及所具有的安全互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點(diǎn)保護(hù)等功能。使設(shè)備的安全性、重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。

產(chǎn)品主要性能指標(biāo)：

型號	RIE-24000
真空系統(tǒng)	進(jìn)樣室：機(jī)械泵系統(tǒng)；刻蝕室：分子泵機(jī)組
樣品尺寸	500×400mm
刻蝕材料	SiO₂、Si₃N₄等
刻蝕不均勻性	≤ ±5%
自動化程度	真空系統(tǒng)、機(jī)械手送/取樣片、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動控制。
人機(jī)界面	Windows環(huán)境、觸摸屏操作
操作方式	全自動方式、非全自動方式
配套件選配	可選擇進(jìn)口件或國產(chǎn)件
送/取樣片方式	機(jī)械手自動送/取片