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上海比目?jī)x器有限公司
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更新時(shí)間:2023-03-02 12:10:55瀏覽次數(shù):344次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)BMT-500大平臺(tái)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭.是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆......
一、用途:
BMT-500大平臺(tái)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭.是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的”金字塔” 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中的檢測(cè)儀器之一.
二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡
類(lèi) 別 放大倍數(shù) 視場(chǎng)(mm)
大視野目鏡 10X φ18
2.物鏡
類(lèi) 型 放大倍數(shù) 數(shù)值孔徑NA 工作距離(mm)
物鏡 4X 0.10 18.3
10X 0.25 8.9
PC20X 0.40 8.7
PC40X 0.65 3.7
3.光學(xué)放大倍數(shù):40X -- 500X
4.濾色片組:黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
5.偏光裝置:可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
6.載物臺(tái):(配有快速移動(dòng)裝置)尺寸:400*300mm 移動(dòng)范圍:254*254mm[標(biāo)配]
7.粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu),微動(dòng)手輪格值:0.002mm
8.落射照明器:12V/20W鹵素?zé)?,亮度可調(diào)
9.防霉:*的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):日本專(zhuān)業(yè)進(jìn)口攝像頭或500萬(wàn)高像素的數(shù)字?jǐn)z像頭
三、系統(tǒng)組成
電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(BMT-500E): 1、硅片顯微鏡 2、適配鏡 3、攝像器(CCD) 4、A/D(圖像采集) 5、驅(qū)動(dòng)軟件 6、數(shù)據(jù)線(xiàn) 7、計(jì)算機(jī)(選配)
四、總放大參考倍數(shù)
電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(BMT-500E):50--4000倍 (17寸顯示器為例)
五、選購(gòu)件
1.硅片專(zhuān)用測(cè)量軟件 2.目鏡: 20X 10X(帶刻度)
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