污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
上海德竹芯源科技有限公司
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上海德竹芯源科技有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)ADEPT 1010
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
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更新時(shí)間：2023-09-22 10:36:50瀏覽次數(shù)：339次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）是使用一次離子束（通常是Cs源）轟擊樣品表面，而產(chǎn)生二次離子，然后用質(zhì)譜分析儀分析二次離子的質(zhì)荷比（m/q），從而得知元素在樣品中的深度分布，是分析半導(dǎo)體摻雜和離子注入的有力的工具。
優(yōu)勢(shì)
● ULVAC-PHI 新設(shè)計(jì)的四極桿-二次離子質(zhì)譜儀 ADEPT 1010，在原有的 PHI 6300 和 PHI 6600 的基礎(chǔ)上，改善了離子光學(xué)系統(tǒng)，是在一次離子能量低至 250eV 時(shí)，仍保持有效的濺射束流的動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜系統(tǒng)（D-SIMS）。
特點(diǎn)
● 大束流低能量離子槍設(shè)計(jì)，提高了深度分辨率
● 高性能離子光學(xué)系統(tǒng)，改善了二次離子傳輸效率，在提高分析效率的同時(shí)又提高了檢測(cè)靈敏度
● 高精度全自動(dòng) 5 軸樣品操控臺(tái)
● 不同方向進(jìn)入檢測(cè)器的二次離子，均可被高靈敏地收集檢測(cè)
應(yīng)用實(shí)例分析
● 采用一次離子源 Cs 在加速 5kV 束流為 100nA 的條件下，分析 GaAs 中注入的 H，C，O 元素。可以看到 H 檢測(cè)限值 7.1 × 1016 atm/cm3，O 檢測(cè)限值 4.4 × 1015 atm/cm3，C 檢測(cè)限值 2.0 × 1015 atm/cm3。
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