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上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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半導(dǎo)體烘烤設(shè)備
HMDS烘箱
環(huán)境檢測(cè)試驗(yàn)箱
烘箱、烤箱
超低溫試驗(yàn)箱
橡塑檢測(cè)儀器設(shè)備
低溫脆性試驗(yàn)儀
線纜檢測(cè)儀器設(shè)備
導(dǎo)體直流電阻測(cè)試儀
密度計(jì),電子密度測(cè)試儀
材料檢測(cè)試驗(yàn)機(jī)
氮?dú)夤?/a>
黑蒜發(fā)酵設(shè)備
黑蒜機(jī),黑蒜箱
光刻為什么需要智能型圖形反轉(zhuǎn)真空系統(tǒng)/氨氣烘箱?2025/4/26
智能型圖形反轉(zhuǎn)真空系統(tǒng)/氨氣烘箱定制的背景在曝光小尺寸圖形時(shí),我們傾向于使用正膠,這一點(diǎn)在前面已經(jīng)討論過(guò)了。其中一個(gè)原因就是正膠適于使用暗場(chǎng)掩模版做孔洞。暗場(chǎng)掩模版大部分被鉻覆蓋,因?yàn)殂t不會(huì)像玻璃一樣...
半導(dǎo)體充氮潔凈烘烤箱 高溫?zé)o氧烘箱工藝指南2025/3/20
半導(dǎo)體充氮潔凈烘烤箱高溫?zé)o氧烘箱工藝指南(2025版)本指南整合半導(dǎo)體行業(yè)核心工藝需求與設(shè)備技術(shù)規(guī)范,覆蓋芯片封裝、基板除潮等關(guān)鍵場(chǎng)景,確保防氧化與潔凈度達(dá)標(biāo)。一、核心工藝參數(shù)配置?氮?dú)饪刂埔?氧氣...
硅烷沉積系統(tǒng) 硅烷氣相沉積設(shè)備 真空硅烷涂膠機(jī)的發(fā)展趨勢(shì)2025/3/6
硅烷沉積系統(tǒng)硅烷氣相沉積設(shè)備真空硅烷涂膠機(jī)的發(fā)展趨勢(shì)硅烷沉積系統(tǒng)是一種用于硅烷(Siih?)作為前驅(qū)體的薄膜沉積設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體、光伏(太陽(yáng)能電池)、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領(lǐng)域的材料制備。...
曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的2024/12/17
光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經(jīng)過(guò)再一次烘烤,因?yàn)檫@次烘烤在曝光后,所以稱(chēng)為“曝光后烘烤”,簡(jiǎn)稱(chēng)后烘或堅(jiān)膜,英文為PostExposureBake(PEB)。曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--...
HMDS預(yù)處理烘箱在光刻工藝中的重要作用2023/12/13
HMDS預(yù)處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強(qiáng)光刻膠和襯底表面的粘附力。光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS(六甲基二硅氮烷,增粘劑)預(yù)處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅(jiān)膜。HMDS預(yù)處理作用:增...
HMDS烘箱涂布的HMDS是如何除去的?2023/11/9
HMDS烘箱是將晶圓表面暴露于蒸汽態(tài)的HMDS的方式氣相涂膠。氣相HMDS主要是用來(lái)增黏的作用。HMDS中文名六甲基二硅氮烷,是一種有機(jī)物,在水中的溶解性很低,但它可與多種有機(jī)溶劑混溶,比如醇、醚和多...
配有HMDS氣體檢測(cè)的HMDS烘箱有嗎2023/10/26
配有HMDS氣體檢測(cè)的HMDS烘箱HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性處理工藝。它是將HMDS(六甲基二硅胺烷)通過(guò)氣相沉積的方法均勻的涂布在基底表面,使基底表面接觸角增大,基底表面由親水性變?yōu)槭杷裕?..
高低溫沖擊試驗(yàn)箱兩箱和三箱該怎么選?2023/10/26
三廂式高低溫沖擊試驗(yàn)箱的設(shè)計(jì)是將低溫區(qū)、高溫區(qū)和試驗(yàn)區(qū)三個(gè)部分集成在一起。這三個(gè)區(qū)域是獨(dú)立的,它們之間通過(guò)風(fēng)門(mén)進(jìn)行切換,不需要移動(dòng)試驗(yàn)產(chǎn)品。兩廂式高低溫沖擊試驗(yàn)箱的工作原理是通過(guò)控制制冷系統(tǒng)和加熱系統(tǒng)...
雙腔式PI固化爐的優(yōu)點(diǎn)2023/10/26
雙腔式PI固化爐操作步驟雙腔式PI固化爐即具有兩個(gè)工作室的PI固化爐,可同時(shí)運(yùn)行也可獨(dú)立操作。不僅具有單腔固化爐的所有功能,而且還能夠使用不同的生產(chǎn)工藝。排氣等管道合二為一,節(jié)約能源,更加環(huán)保;雙腔式...
氮?dú)夂嫦湓诎雽?dǎo)體制程如何選擇?2023/10/26
每個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造都需要數(shù)百個(gè)工藝,整個(gè)制造過(guò)程分為八個(gè)步驟:晶圓加工-氧化-光刻-刻蝕-薄膜沉積-互連-測(cè)試-封裝。然而在這數(shù)百個(gè)工藝中有數(shù)道需要烘烤工藝,而且每個(gè)烘烤工藝不是相同,所以需要的烘烤...
無(wú)需液氮的-150度的超低溫試驗(yàn)箱你知道嗎?2023/10/26
-150度的超低溫試驗(yàn)箱采用先進(jìn)的復(fù)疊制冷技術(shù),以多元混合工質(zhì)作為制冷劑。極大地簡(jiǎn)化了制冷系統(tǒng)的結(jié)構(gòu),降低了初投資成本,減小系統(tǒng)運(yùn)行能耗,提高系統(tǒng)可靠性。制冷系統(tǒng)采用精餾的方法巧妙的完成了潤(rùn)滑油與混合...
氮?dú)夂嫦?,百?jí)潔凈烘箱在光刻軟烘烤工藝注意事項(xiàng)有哪些?2023/10/7
光刻加工中涂布后,所得的抗蝕劑膜將包含20-40%重量的溶劑。后涂覆烘烤工藝,也稱(chēng)為軟烘烤或預(yù)烘烤,涉及在旋涂之后通過(guò)除去該過(guò)量溶劑來(lái)干燥光致抗蝕劑。減少溶劑含量的主要原因是使抗蝕劑膜穩(wěn)定。在室溫下,...
HMDS烘箱在第三代半導(dǎo)體材料中的工藝2023/10/7
HMDS烘箱在第三代半導(dǎo)體材料中的工藝第三代半導(dǎo)體是以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)為代表的寬禁帶(禁帶寬度Eg2.3eV)的半導(dǎo)體材料。其中又以SiC...
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用2023/7/6
鈮酸鋰具有出色的光電特性,作為一種集成光子平臺(tái),受到廣泛關(guān)注。在此基礎(chǔ)上,各種功能光子器件,如電光調(diào)制器和非線性波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換器,已經(jīng)展現(xiàn)出令人矚目的性能。與此同時(shí),基于鈮酸鋰薄膜的激光器和放大器作為集成光...
充氮真空無(wú)氧烘箱的原理2023/7/4
1.充氮真空無(wú)氧烘箱的原理,其原理通過(guò)外接氮?dú)庵脫Q裝置,使箱體內(nèi)達(dá)到無(wú)氧真空狀態(tài),提供無(wú)氧潔凈的固化環(huán)境。2.充氮真空烘箱熱量利用的比較充分,專(zhuān)為干燥熱敏性、易分解等物質(zhì)而設(shè)計(jì),能夠向內(nèi)部充入惰性氣體...

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