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精密熱板光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤"，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Ex...

可程式HMDS真空 烘箱HMDS真 空烘箱用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積晶圓基底脫水烘烤

真空保存箱 真空儲存柜真空防潮柜適用于工廠、高等院校、科研等場所，適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、...

真空防潮存儲箱真空儲存柜真空干燥柜彩色觸摸屏界面，集成式控制，位于箱體上方，可自動/手動控制，，也可用于材料器件、部件、元件的脫濕處理。

HMDS氣相成底膜烘箱真空HMDS氣相烘箱在晶圓上行噴涂hmds預(yù)處理的工藝，將晶圓表面親水性的置換為疏水性的，使晶圓表面接觸角達(dá)到65或更高。

真空存儲柜 真空干燥柜 真空氮氣柜適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、...

HMDS預(yù)處理機(jī)H-2智能HMDS真空烘箱為半導(dǎo)體應(yīng)用的光刻膠粘合促進(jìn)劑工藝設(shè)備，

反轉(zhuǎn)真空烘箱圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝；在電子制造業(yè)中，可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝；在航空航天制造業(yè)中，可以用于航空發(fā)動...

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)...

掩膜版HMDS真空烘箱hmds烤箱使基底表面由親水性變?yōu)槭杷?，增?qiáng)表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、...

防凝露高低溫濕熱箱除濕恒溫恒濕試驗箱溫度試驗箱在高溫段持續(xù)輸入箱內(nèi)進(jìn)行空氣置換，可將箱內(nèi)空氣露點降至露點。其次在降溫段保持干空氣的輸入，維持箱內(nèi)對外界空氣形成微...

超低濕恒溫恒濕箱 低溫低濕實驗箱是模擬GB/T10586-2006濕熱試驗箱技術(shù)條件、GB/T10589-2008低溫試驗箱等技術(shù)條件；GB/T11158-20...

真空烤箱 可程式真空箱 自動真空烘箱專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計，能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥。

氮氣潔凈烘箱光刻膠無塵烘箱 百級烘箱適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研.

HDMS烘箱HDMS真空烘箱HDMS預(yù)處理烘箱保護(hù)裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等

低濕度恒溫恒濕箱 低溫低濕箱 10濕度試驗箱模擬試品在溫濕度變化環(huán)境條件下加載模擬振動的適應(yīng)性試驗及對電子元器件的安全性測試提供可靠性試驗、產(chǎn)品篩選等。

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。

HMDS烘箱圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反...

堅膜烘箱 百級潔凈烘箱 氮氣無塵烘箱是通過加溫烘烤使膠膜更加牢固的粘附在晶圓表面，并可以增加膠層的抗刻蝕能力的一道光刻膠工藝。

光刻膠HMDS烘箱HMDS疏水處理烘箱應(yīng)用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO...