EMPro-PV是針對光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的型多入射角激光橢偏儀。
EMPro-PV用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。
EMPro-PV融合多項量拓科技技術(shù)，采用一體化樣品臺技術(shù)，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品，并實現(xiàn)二者的輕松轉(zhuǎn)換。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。
特點：
粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量
光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測器件以及高信噪比的微弱信號處理方法，實現(xiàn)了對粗糙表面散射為主和反射率為特征的絨面太陽電池表面鍍層的高靈敏檢測。
原子層量的靈敏度和準(zhǔn)確度
采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了的準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性，測量絨面減反膜膜厚精度優(yōu)于0.03nm，折射率精度優(yōu)于0.0003。
百毫秒量的快速測量
水準(zhǔn)的儀器設(shè)計，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時，可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量，可滿足快速多點檢測和批量檢測需求。
簡單方便安全的儀器操作
一鍵式操作設(shè)計，用戶只需一個按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出，豐富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的高操作需求。
應(yīng)用：
EMPro-PV適合于光伏領(lǐng)域中高精度要求的工藝研發(fā)和現(xiàn)場的質(zhì)量控制?？捎糜跍y量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面上單層減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。典型納米膜層包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等。應(yīng)用領(lǐng)域包括晶體硅太陽電池、薄膜太陽電池等。
EMPro-PV也可用于測量光滑平面基底上鍍的納米單層膜或雙層膜，包括膜層的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。也可用于測量塊狀材料（包括，液體、金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體、微電子、平板顯示等。
技術(shù)指標(biāo)：
| 項目 | 技術(shù)指標(biāo) |
| 儀器型號 | EMPro-PV |
| 版本號 | 31 |
| 激光波長 | 632.8nm (He-Ne Laser) |
| 膜厚測量重復(fù)性（1） | 0.01nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 0.03nm (對于絨面Si基底上80nm的Si3N4膜層) |
| 折射率精度（1） | 1x10-4 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 3x10-4 (對于絨面Si基底上80nm的Si3N4膜層) |
| 單次測量時間 | 與測量設(shè)置相關(guān)，典型0.6s |
| 結(jié)構(gòu) | PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有的準(zhǔn)確度） |
| 激光光束直徑 | 1mm |
| 入射角度 | 40°-90°可手動調(diào)節(jié)，步進(jìn)5° |
| 樣品方位調(diào)整 | 一體化樣品臺輕松變換可測量單晶或多晶樣品； |
| 可測量156*156mm電池樣品上每個點 |
| Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm |
| 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° |
| 樣品對準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對準(zhǔn)系統(tǒng) |
| 樣品臺尺寸 | 平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm |
| 兼容125*125mm和156*156mm的太陽能電池樣品 |
| 大的膜層測量范圍 | 粗糙表面樣品：與絨面物理結(jié)構(gòu)及材料性質(zhì)相關(guān) |
| 光滑平面樣品：透明薄膜可達(dá)4000nm，吸收薄膜與材料性質(zhì)相關(guān) |
| 大外形尺寸(長x寬x高) | 887 x 332 x 552mm (入射角為90º時) |
| 儀器重量（凈重） | 25Kg |
| 選配件 | 水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺 |
| 真空吸附泵 |
| 軟件 | ETEM軟件： |
| l 中英文界面可選 |
| l 太陽能電池樣品預(yù)設(shè)項目供快捷操作使用 |
| l 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合 |
| l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 |
| l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持 |
注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量25次所計算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證：
高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源采樣方法以及低噪聲探測技術(shù)，保證了高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度
一體化樣品臺技術(shù)，兼容單晶和多晶硅太陽電池樣品,輕松變換可實現(xiàn)準(zhǔn)確測量
高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對準(zhǔn)
新型樣品調(diào)節(jié)技術(shù)，有效提高樣品定位精度，并節(jié)省操作時間
新型光電增強(qiáng)技術(shù)和噪聲處理方法，顯著降低現(xiàn)場噪聲的影響
一體化集成式儀器整體設(shè)計，保證了系統(tǒng)穩(wěn)定性，并節(jié)省空間
分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和相對厚度的測量
一鍵式軟件設(shè)計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
