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光譜橢偏儀FE-5000 / 5000S

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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹：除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外，我們還通過實(shí)現(xiàn)自動(dòng)可變測(cè)量機(jī)制來支持所有類型的薄膜。除了常規(guī)的旋轉(zhuǎn)光子檢測(cè)器方法之外，通過為延遲板提供自動(dòng)連接/分離機(jī)制，還提高了測(cè)量精度。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

特殊長度

可以在紫外可見光（300-800 nm）波長范圍內(nèi)測(cè)量橢偏參數(shù)。
可以進(jìn)行納米級(jí)的多層薄膜厚度分析
通過多通道光譜儀可快速測(cè)量橢圓偏振光，可測(cè)量400通道或更多通道
通過可變反射角測(cè)量支持對(duì)薄膜的詳細(xì)分析
通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫并添加配方注冊(cè)功能來提高可操作性。

測(cè)量項(xiàng)目

橢偏參數(shù)（tanψ，cosΔ）測(cè)量
光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
膜厚分析

測(cè)量目標(biāo)

半導(dǎo)體晶片
柵極氧化物薄膜，氮化物膜
SiO ₂，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al ₂ O ₃，SiN _x O _y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光學(xué)常數(shù)（波長色散）抵抗
化合物半導(dǎo)體
Al _x Ga _（1-x）作為多層膜，非晶硅
FPD
取向膜
各種新材料
DLC（類金剛石），超導(dǎo)薄膜，磁頭薄膜
光學(xué)薄膜
TiO ₂，SiO ₂，減反射膜
在每個(gè)波長下的光刻場(chǎng)n，k評(píng)估，例如g線（436 nm），h線（405 nm），i線（365 nm）

產(chǎn)品信息
原則
規(guī)格
測(cè)量例

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