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VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

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產(chǎn)品型號

品       牌

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更新時間:2022-09-07 14:43:20瀏覽次數(shù):222次

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產(chǎn)品簡介

VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介:VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸,樣品臺與濺射頭之間的高度30-80mm之間可以調(diào)節(jié)。安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進(jìn)行預(yù)濺射。濺射頭對樣品的濺射時間在1-120s之間可調(diào),若想獲得薄的薄膜,濺射時間可以設(shè)置短一點;若想獲得厚的薄膜,濺射時間可以長一點。VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀設(shè)計主要是制作一些金屬薄膜,制膜面積可達(dá)到4英寸。設(shè)備外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。

 

產(chǎn)品型號

VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

 

主要特點

1、特別為SEM樣品鍍導(dǎo)電性薄膜設(shè)計。

2、體積小巧,操作簡單,容易上手。

3、擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技術(shù)參數(shù)

1、輸入電源:220V AC 50/60Hz

2、功率:200W

3、輸出電壓:500 VDC

4、濺射電流:0-50 mA可調(diào)

5、濺射時間:0-120S可調(diào)

6、濺射腔體

1)采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封:采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈

7、濺射頭&樣品臺

l)濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸,厚度0.1 - 2.5mm

      2)濺射時間1-120S可調(diào)

3)儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離30-80mm可調(diào)。

      4)可選購加熱型樣品臺,其加熱溫度為500℃

      5)安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進(jìn)行預(yù)濺射

6)可制膜的直徑為:4英寸(僅供參考,詳情請點擊)

    

 

8、真空系統(tǒng)

l)安裝有KF25真空接口

2)數(shù)字真空壓力表(Pa)

3)此系統(tǒng)可通入氣體運行

4)< 1.0E-2 Torr (采用機械泵)

5)< 1.0E-5 Torr(采用渦旋分子泵)

9、進(jìn)氣

l)設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口,方便連接氣瓶

   2)設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流

10、靶材

   l)靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

   2)設(shè)備標(biāo)配為銅靶

11、產(chǎn)品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

 

 

凈重:20 kg(不包括泵)

 

 

 

 

 

 

 

 

可選

1、可在本公司選購各種靶材

對于濺射各種金屬靶材,需要摸索的濺射參數(shù),下表是本公司實驗所設(shè)置的參數(shù),歡迎您帶料來科晶實驗室摸索工藝(僅供參考)

靶材種類

真空度(Pa)

濺射電流(mA)

 時間 (s)

濺射次數(shù)

Au

31-33

28-30

100

1

Ag

31

28

100

1

 

2、可在本公司選購各種真空泵

 

3、可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

   

 

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

 

 

質(zhì)保期

 

 

一年保修,終身技術(shù)支持。

特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

         2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

使用提示

 

l、有時為了達(dá)到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜

2、在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈

3、要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面

4、超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲,(2)異丙醇超聲-去除油脂,(3)吹氮氣干燥,(4)真空烘箱除去水分。

5、等離子清洗(詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。

6、制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

7、請使用>5N純度氬氣等離子體濺射

8、濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射

9、由于能量低,該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al,Mg,Zn,Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機或熱蒸發(fā)鍍膜機。

                      
   超聲波清洗機 等離子清洗機 大功率磁控濺射儀       蒸發(fā)鍍膜儀  

 

 

警告

 

注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。

氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用

濺射頭連接到高電壓。

為了安全,操作者必須關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶頭。

       

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