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Mattson刻蝕機(jī)Asher設(shè)備 Aspen 3 Lite

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青島佳鼎分析儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設(shè)計(jì)，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案

詳細(xì)介紹

Aspen III 基于具有接地法拉第屏蔽的專有 ICP 源設(shè)計(jì)，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案。Aspen III 的平臺設(shè)計(jì)可處理 200 毫米和 300 毫米晶圓，并支持特殊晶圓處理，包括翹曲和半透明晶圓。的工藝室架構(gòu)可以滿足業(yè)內(nèi)的設(shè)備制造商跨多個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的技術(shù)要求。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

平臺
- 200 mm / 300 mm 橋接工具
- 玻璃/石英/半透明晶圓處理
- 翹曲 (> 5 mm) 晶圓處理
- 雙晶圓室設(shè)計(jì)，獨(dú)立晶圓控制
- 單或雙工藝室選項(xiàng)
- 高速機(jī)器人
- 真空負(fù)載鎖
- 安裝了 500 多個(gè)系統(tǒng)
ICP HT / Strip 處理室
- 專有法拉第屏蔽ICP源
- 還原和氟化學(xué)能力
- 耗材成本低
LiteEtch 工藝室
- 高濃度氟工藝的各向同性蝕刻
- 耐氟室設(shè)計(jì)
eHighlands 蝕刻和剝離工藝室
- 偏置能力
- 低溫（10°C 至 80°C）能力
- 低壓（5 mT 至 300 mT）能力