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離子束刻蝕機(jī)

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更新時(shí)間：2022-12-18 20:24:27瀏覽次數(shù)：712次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

離子束刻蝕機(jī) 離子束刻蝕離子束鍍膜

詳細(xì)介紹

1. 功能概述

該系統(tǒng)為通用離子束刻蝕系統(tǒng)，除了可進(jìn)行傳統(tǒng)三維結(jié)構(gòu)刻蝕外，還可實(shí)現(xiàn)離子束清洗、材料表面拋光和材料減薄等功能，還可選配化學(xué)輔助離子束刻蝕（CAIBE）與反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）。

2. 可加工材料

系統(tǒng)可用于刻蝕加工各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、聚合物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)等各種材料。

3. 應(yīng)用領(lǐng)域

廣泛適用于半導(dǎo)體、光學(xué)、光電子、微電子、微機(jī)械、X射線近代光學(xué)、通信、導(dǎo)航、衛(wèi)星、、雷達(dá)、核聚變、超導(dǎo)、生物、醫(yī)學(xué)、傳感器等多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域，制造各種力、熱、聲、光、電、磁等新型材料與器件。

4. 的離子束出射能量分布技術(shù)

離子源發(fā)射口徑80mm，有效束徑可達(dá)80mm，有效束徑大于70%。

5. *的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)原理

采用永磁發(fā)散場(chǎng)，配置可消除熱形變匹配等離子體濃度分布的Mo質(zhì)離子雙柵光學(xué)系統(tǒng)，精心設(shè)計(jì)的反射式主陰極組件，一體化浸入式中和陰極與插入式陽極。工作性能優(yōu)良，具有穩(wěn)定性、可靠性。

關(guān)鍵詞：傳感器

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