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納米通用圖形發(fā)生器

參   考   價(jià): 450000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號DY-2000A

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時(shí)間:2025-04-25 17:09:19瀏覽次數(shù):474次

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產(chǎn)地 國產(chǎn)
圖形發(fā)生器+SEM(FIB)=簡易電子束曝光系統(tǒng)(EBL) 保留電鏡原有功能。

一種圖形發(fā)生器,用于電子束、離子束等帶電粒子的曝光機(jī),屬于曝光機(jī)的圖形發(fā)生器硬件。本實(shí)用新型提供一種運(yùn)算速度快、接口簡單、功耗低、功能多樣的曝光機(jī)用的圖形發(fā)生器,它以高速數(shù)字信號處理器為核心,通過通用串行總線接口 和上位機(jī)實(shí)現(xiàn)通訊,該圖形發(fā)生器不僅可以滿足以三角形,矩形和梯形為基本曝光單元圖形的曝光格式,而且 增加了圓及圓環(huán)為具本曝光單元圖形,解決了集成光柵器件加工在速度度和精度上存在的缺陷。本實(shí)用新型由接口電路、雙端口存儲器電路、數(shù)學(xué)信號處理器電路、數(shù)模轉(zhuǎn)換電路、曝光標(biāo)記檢測控制電路、標(biāo)記檢測電路、最終曝光數(shù)據(jù)寄存器單元和束閘控制電路相互連接構(gòu)。


曝光精度:100納米



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