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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司


  • 杜邦蝕刻殘留物去除液

    詳細(xì)摘要: EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè),以滿足關(guān)鍵的清潔需求從高深寬比MEMS器件100μm+到DRAM 的70nm集成的各個階段

    產(chǎn)品型號:杜邦 EFC265所在地:北京市更新時間:2024-04-28 在線留言

  • 化學(xué)氣相沉積(PECVD)

    詳細(xì)摘要: 是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

    產(chǎn)品型號:PECVD-601/801/1201所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)。它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬,使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜??烧舭l(fā)很多難熔金屬或...

    產(chǎn)品型號:MEB-600/800所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。

    產(chǎn)品型號:MSP-300/400/5100/6200所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 離子束刻蝕機(IBE)

    詳細(xì)摘要: IBE刻蝕機采用離子束刻蝕技術(shù),其原理基于離子和固體表面的相互作用。具體而言,離子束通過控制系統(tǒng)加速并聚焦,然后瞄準(zhǔn)待刻蝕的樣品表面。離子束在與樣品表面相撞時,...

    產(chǎn)品型號:DISC-IBE-150C/200C所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 反應(yīng)離子刻蝕機(RIE)

    詳細(xì)摘要: 反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的,利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)各向異性刻蝕,即是利用離...

    產(chǎn)品型號:DISC-RIE-601/801/1201所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(ICP)

    詳細(xì)摘要: 感應(yīng)耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線,通過感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體,同時刻蝕工作臺引入射頻偏壓,射頻偏壓作用下,等離子體中垂直向下對被刻蝕材料表...

    產(chǎn)品型號:DISC-ICP-601/801/1201/所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 紫外光刻機

    詳細(xì)摘要: 截止到2008年1月,ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機,50多臺單獨曝光系統(tǒng)。客戶包括美國NSA和INTEL、哈佛大學(xué)、LG、菲利普、惠普、3M等,A...

    產(chǎn)品型號:ABM/6/350/NUV/DCCD/SA所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 紫外光刻機

    詳細(xì)摘要: 光刻機可廣泛用于MEMS和光電子,例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計,方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片

    產(chǎn)品型號:URE-2000/17/25/35/34AL所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • TOHO 薄膜應(yīng)力測量儀

    詳細(xì)摘要: 薄膜應(yīng)力測量:在硅片等基板上附膜時,由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測量裝置F...

    產(chǎn)品型號:日本 Toho FLX-2320系列所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 電子束曝光系統(tǒng)/曝光機

    詳細(xì)摘要: pharos310曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫或投影復(fù)印圖形的技術(shù),它的特點是分辨率高、圖形產(chǎn)生與修改容易、制作周期短。其中掃描曝光系統(tǒng)是電子束...

    產(chǎn)品型號:pharos310所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

  • 納米通用圖形發(fā)生器

    詳細(xì)摘要: 圖形發(fā)生器+SEM(FIB)=簡易電子束曝光系統(tǒng)(EBL) 保留電鏡原有功能。

    產(chǎn)品型號:DY-2000A所在地:北京市更新時間:2024-04-09 在線留言

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